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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件
(2023年:第32位 708件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件
(2023年:第80位 398件)
(ランキング更新日:2025年9月12日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7470104 | 中間ブレークスルー処理を用いたハイブリッドレーザスクライビング及びプラズマエッチング手法を使用するウエハダイシング | 2024年 4月17日 | |
特許 7470190 | モジュラLEDヒータ | 2024年 4月17日 | |
特許 7470192 | 設置面積の縮小した半導体処理ツールのプラットフォーム構成 | 2024年 4月17日 | |
特許 7470196 | トポグラフィック基板を製造するためのマスクレスリソグラフィ方法 | 2024年 4月17日 | |
特許 7469385 | 電子デバイス製造において複数の基板を移送するように適合されたマルチブレードロボット装置、電子デバイス製造装置、及び方法 | 2024年 4月16日 | |
特許 7467541 | タンデム処理領域を有するプラズマチャンバ | 2024年 4月15日 | |
特許 7466460 | PVDプロセスにおける粒子低減のためのプロセスキットの形状寸法 | 2024年 4月12日 | |
特許 7466658 | 複数の歯部が設けられた磁気的に制御される保持リング | 2024年 4月12日 | |
特許 7465979 | 選択的な酸化および簡略化された前洗浄 | 2024年 4月11日 | |
特許 7465219 | リチウムの安定を可能にする拡散バリア膜 | 2024年 4月10日 | |
特許 7465256 | 非UV高硬度低Kの膜堆積 | 2024年 4月10日 | |
特許 7465265 | 位相制御を使用してプラズマ分布を調整するためのデバイス及び方法 | 2024年 4月10日 | |
特許 7465277 | 化学機械研磨における研磨パッドテクスチャのモニタリング | 2024年 4月10日 | |
特許 7465287 | 自己形成バリア層を備えた低誘電率誘電体 | 2024年 4月10日 | |
特許 7464539 | 共形性炭素膜堆積 | 2024年 4月 9日 |
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7470104 7470190 7470192 7470196 7469385 7467541 7466460 7466658 7465979 7465219 7465256 7465265 7465277 7465287 7464539
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