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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件 (2023年:第32位 708件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件 (2023年:第80位 398件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7447312 | マルチゾーンプラテン温度制御 | 2024年 3月11日 | |
特許 7446335 | 接地用ストラップアセンブリ | 2024年 3月 8日 | |
特許 7444842 | ピクセル型温度制御式基板支持アセンブリ | 2024年 3月 6日 | |
特許 7445043 | 減圧システムを洗浄するための方法、基板の減圧処理のための方法、及び基板を減圧処理するための装置 | 2024年 3月 6日 | |
特許 7443250 | 原子層自己整合基板の処理及び統合型ツールセット | 2024年 3月 5日 | |
特許 7443393 | 3D-NANDモールド | 2024年 3月 5日 | |
特許 7443430 | リアルタイムの力および膜応力制御を備えた基板支持体 | 2024年 3月 5日 | |
特許 7443438 | 化学機械研磨用スラリー分配装置 | 2024年 3月 5日 | |
特許 7443560 | 極端紫外線マスク吸収体材料 | 2024年 3月 5日 | |
特許 7442459 | カーボンハードマスクのプラズマ強化化学気相堆積 | 2024年 3月 4日 | |
特許 7442580 | 調整可能な大きい垂直磁気異方性を有する磁気トンネル接合 | 2024年 3月 4日 | |
特許 7442654 | 基板エッジを洗浄し、基板キャリアヘッドの間隙を洗浄する、装置及び方法 | 2024年 3月 4日 | |
特許 7441805 | 導電膜層の厚さ測定のための方法、装置およびシステム | 2024年 3月 1日 | |
特許 7441889 | 機械学習とパッドの厚さの補正を使用した研磨装置 | 2024年 3月 1日 | |
特許 7441900 | 正確な温度及び流量制御を備えたマルチステーションチャンバリッド | 2024年 3月 1日 |
555 件中 466-480 件を表示
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7447312 7446335 7444842 7445043 7443250 7443393 7443430 7443438 7443560 7442459 7442580 7442654 7441805 7441889 7441900
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1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
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1月17日(金) -
1月17日(金) -
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