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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第379位 113件
（
2016年：第396位 90件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第305位 95件
（2016年：第324位 97件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6153586 | 位置決めシステム、リソグラフィ装置及び方法 | 2017年 6月28日 | |
| 特許 6154459 | リソグラフィ装置用の燃料システム、ＥＵＶ源、リソグラフィ装置及び燃料フィルタリング方法 | 2017年 6月28日 | |
| 特許 6151284 | 静電クランプ | 2017年 6月21日 | |
| 特許 6145564 | リソグラフィ装置における使用のための物体ホルダ、及び、物体ホルダを製造する方法 | 2017年 6月14日 | |
| 特許 6144874 | リソグラフィ装置用の反射型光コンポーネントおよびデバイス製造方法 | 2017年 6月 7日 | |
| 特許 6145131 | ポンプシステム、二酸化炭素供給システム、抽出システム、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 | 2017年 6月 7日 | |
| 特許 6138137 | 自己組織化可能な重合体のためのパターン付配向テンプレートを提供する方法 | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6140191 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6140844 | 三次元パターニングデバイス用リソグラフィモデル | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6132917 | ステージシステム、ステージシステムを備えるリソグラフィ装置 | 2017年 5月24日 | |
| 特許 6133980 | リソグラフィのためのメトロロジ | 2017年 5月24日 | |
| 特許 6134284 | リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造 | 2017年 5月24日 | |
| 特許 6125525 | 放射源 | 2017年 5月10日 | |
| 特許 6126798 | 放射源およびリソグラフィ装置 | 2017年 5月10日 | |
| 特許 6120967 | 微細構造の非対称性を測定する方法及び装置、位置測定方法、位置測定装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2017年 4月26日 |
97 件中 46-60 件を表示
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6153586 6154459 6151284 6145564 6144874 6145131 6138137 6140191 6140844 6132917 6133980 6134284 6125525 6126798 6120967
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