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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第331位 113件
（
2016年：第382位 90件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第305位 95件
（2016年：第324位 97件）
（ランキング更新日：2026年11月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6240165 | 熱調整ユニット、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6236000 | リソグラフィパターニングプロセスおよび同プロセス内で使用するレジスト | 2017年11月22日 | |
| 特許 6228878 | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2017年11月 8日 | |
| 特許 6227123 | 放射源の制御方法およびこの放射源を備えたリソグラフィ装置 | 2017年11月 8日 | |
| 特許 6222796 | 放射源 | 2017年11月 1日 | |
| 特許 6216460 | 液浸リソグラフィ装置 | 2017年10月18日 | |
| 特許 6215290 | 計算プロセス制御 | 2017年10月18日 | |
| 特許 6209217 | 放射を発生させるための方法及び装置 | 2017年10月 4日 | |
| 特許 6209234 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2017年10月 4日 | |
| 特許 6198816 | 放射源 | 2017年 9月20日 | |
| 特許 6198837 | パターニングデバイス操作システム及びリソグラフィ装置 | 2017年 9月20日 | |
| 特許 6196945 | リトグラフ装置 | 2017年 9月13日 | |
| 特許 6196286 | 基板テーブルシステム、リソグラフィ装置および基板テーブル交換方法 | 2017年 9月13日 | |
| 特許 6192711 | 静電クランプ、リソグラフィ装置および方法 | 2017年 9月 6日 | |
| 特許 6194371 | ブロック共重合体の自己組織化により基板上に間隔をあけて配置されるリソグラフィフィーチャを提供する方法 | 2017年 9月 6日 |
97 件中 16-30 件を表示
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6240165 6236000 6228878 6227123 6222796 6216460 6215290 6209217 6209234 6198816 6198837 6196945 6196286 6192711 6194371
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