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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第379位 113件
（
2016年：第396位 90件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第305位 95件
（2016年：第324位 97件）
（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6240714 | 熱調整ユニット、及びリソグラフィ装置 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6236000 | リソグラフィパターニングプロセスおよび同プロセス内で使用するレジスト | 2017年11月22日 | |
| 特許 6227123 | 放射源の制御方法およびこの放射源を備えたリソグラフィ装置 | 2017年11月 8日 | |
| 特許 6228878 | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2017年11月 8日 | |
| 特許 6222796 | 放射源 | 2017年11月 1日 | |
| 特許 6215290 | 計算プロセス制御 | 2017年10月18日 | |
| 特許 6216460 | 液浸リソグラフィ装置 | 2017年10月18日 | |
| 特許 6209217 | 放射を発生させるための方法及び装置 | 2017年10月 4日 | |
| 特許 6209234 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2017年10月 4日 | |
| 特許 6198816 | 放射源 | 2017年 9月20日 | |
| 特許 6198837 | パターニングデバイス操作システム及びリソグラフィ装置 | 2017年 9月20日 | |
| 特許 6196286 | 基板テーブルシステム、リソグラフィ装置および基板テーブル交換方法 | 2017年 9月13日 | |
| 特許 6196945 | リトグラフ装置 | 2017年 9月13日 | |
| 特許 6192711 | 静電クランプ、リソグラフィ装置および方法 | 2017年 9月 6日 | |
| 特許 6193870 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2017年 9月 6日 |
97 件中 16-30 件を表示
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6240714 6236000 6227123 6228878 6222796 6215290 6216460 6209217 6209234 6198816 6198837 6196286 6196945 6192711 6193870
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