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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第379位 113件
（
2016年：第396位 90件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第305位 95件
（2016年：第324位 97件）
（ランキング更新日：2025年2月14日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6122073 | 流体ハンドリング構造、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2017年 4月26日 | |
| 特許 6122853 | 放射源 | 2017年 4月26日 | |
| 特許 6122856 | チャック、リソグラフィ装置及びチャックを使用する方法 | 2017年 4月26日 | |
| 特許 6116128 | リソグラフィ装置および方法 | 2017年 4月19日 | |
| 特許 6116593 | 放射源及びリソグラフィ装置 | 2017年 4月19日 | |
| 特許 6117188 | 材料供給装置のためのフィルタ | 2017年 4月19日 | |
| 特許 6118896 | レーザ源からの主パルス及びプレパルスビームを分離するためのシステム及び方法 | 2017年 4月19日 | |
| 特許 6114411 | パターニングデバイス、基板上へのマーカ形成方法およびデバイス製造方法 | 2017年 4月12日 | |
| 特許 6110504 | リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびコンピュータプログラムプロダクト | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6110894 | リトグラフ装置 | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6110902 | リトグラフ装置 | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6099883 | リソグラフィ装置及び部品 | 2017年 3月22日 | |
| 特許 6100882 | リソグラフィ装置、センサ及び方法 | 2017年 3月22日 | |
| 特許 6101348 | 位置決めシステム、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2017年 3月22日 | |
| 特許 6101704 | 液滴発生器ステアリングシステム | 2017年 3月22日 |
97 件中 61-75 件を表示
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6122073 6122853 6122856 6116128 6116593 6117188 6118896 6114411 6110504 6110894 6110902 6099883 6100882 6101348 6101704
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