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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第242位 151件
（
2022年：第222位 169件）
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第238位 146件
（
2022年：第259位 122件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7331238 | 基板高さを測定する装置及び方法 | 2023年 8月22日 | |
| 特許 7330279 | リフレクタ製造方法及び関連するリフレクタ | 2023年 8月21日 | |
| 特許 7325961 | パターニングデバイス | 2023年 8月15日 | |
| 特許 7326292 | 基板上のターゲット構造の位置を決定するための装置及び方法 | 2023年 8月15日 | |
| 特許 7325501 | 濃縮及び放射性同位元素生成 | 2023年 8月14日 | |
| 特許 7325606 | ウェーハ接地のための方法、装置、及びシステム | 2023年 8月14日 | |
| 特許 7324751 | レーザビームモニタリングシステム | 2023年 8月10日 | |
| 特許 7324768 | 放射ビームのための反射光学素子 | 2023年 8月10日 | |
| 特許 7323642 | 多重荷電粒子ビーム装置 | 2023年 8月 8日 | |
| 特許 7320505 | 真空容器内のデブリ流束測定システムの再生 | 2023年 8月 3日 | |
| 特許 7318040 | マスクアセンブリ | 2023年 7月31日 | |
| 特許 7315718 | アプラナティック対物単レンズを含む計測ツール | 2023年 7月26日 | |
| 特許 7313825 | ＥＵＶ光源用のターゲット材料を精製するための方法及び装置 | 2023年 7月25日 | |
| 特許 7312720 | 層状複合電極装置を有する静電保持装置およびその製造方法 | 2023年 7月21日 | |
| 特許 7312755 | ２次元回折格子 | 2023年 7月21日 |
148 件中 46-60 件を表示
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7331238 7330279 7325961 7326292 7325501 7325606 7324751 7324768 7323642 7320505 7318040 7315718 7313825 7312720 7312755
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