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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第242位 151件
（
2022年：第222位 169件）
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第238位 146件
（
2022年：第259位 122件）
（ランキング更新日：2025年10月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7312893 | ＥＵＶ光源においてデブリを制御するための装置及び方法 | 2023年 7月21日 | |
| 特許 7312917 | 製造プロセスを制御するための方法及び関連装置 | 2023年 7月21日 | |
| 特許 7311586 | パルスストレッチャーおよび方法 | 2023年 7月19日 | |
| 特許 7309748 | スキャン露光装置を制御する方法 | 2023年 7月18日 | |
| 特許 7309776 | リソグラフィパターニングプロセスおよびそれに用いるレジスト | 2023年 7月18日 | |
| 特許 7308981 | マルチ荷電粒子ビーム装置及びその動作方法 | 2023年 7月14日 | |
| 特許 7307054 | ペリクルフレーム及びペリクルアセンブリ | 2023年 7月11日 | |
| 特許 7305715 | 冷却装置及びその使用方法並びにリソグラフィ装置 | 2023年 7月10日 | |
| 特許 7305792 | フォトリソグラフィ結像の方法及び装置 | 2023年 7月10日 | |
| 特許 7305826 | 複数荷電粒子ビームの装置 | 2023年 7月10日 | |
| 特許 7304349 | リソグラフィ装置を制御する方法および関連する装置 | 2023年 7月 6日 | |
| 特許 7303342 | 荷電粒子源モジュール | 2023年 7月 4日 | |
| 特許 7302035 | ミラー較正方法、位置測定方法、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | 2023年 7月 3日 | |
| 特許 7299978 | 高電圧真空フィードスルー | 2023年 6月28日 | |
| 特許 7299406 | メトロロジにおける補正不能誤差 | 2023年 6月27日 |
148 件中 61-75 件を表示
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7312893 7312917 7311586 7309748 7309776 7308981 7307054 7305715 7305792 7305826 7304349 7303342 7302035 7299978 7299406
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