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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7297878 | リソグラフィ装置におけるオブジェクト | 2023年 6月26日 | |
特許 7296385 | 液滴の液滴ストリームへの合体を制御するための装置及び制御方法 | 2023年 6月22日 | |
特許 7296410 | 粒子ビーム検査装置 | 2023年 6月22日 | |
特許 7288974 | リソグラフィプロセスのサブフィールド制御および関連する装置 | 2023年 6月 8日 | |
特許 7288020 | メトロロジー方法、ターゲット、及び基板 | 2023年 6月 6日 | |
特許 7286630 | 荷電粒子ビームを用いた装置 | 2023年 6月 5日 | |
特許 7286683 | リフレクタおよびリフレクタの製造方法 | 2023年 6月 5日 | |
特許 7286778 | 利得要素を備えた荷電粒子検出器およびその製造方法 | 2023年 6月 5日 | |
特許 7285217 | 支持構造、方法、及びリソグラフィ装置 | 2023年 6月 1日 | |
特許 7281547 | プロセス制御のためのインダイメトロロジ方法及びシステム | 2023年 5月25日 | |
特許 7281553 | 周波数拡大装置及び方法 | 2023年 5月25日 | |
特許 7280356 | プロセスに対する補正の決定 | 2023年 5月23日 | |
特許 7280367 | 荷電粒子ビームのエネルギーの広がりを制御するための装置及び方法 | 2023年 5月23日 | |
特許 7279032 | マーク、オーバーレイターゲット、並びにアライメント及びオーバーレイの方法 | 2023年 5月22日 | |
特許 7279197 | サンプリングスキームを決定する方法、半導体基板測定装置、リソグラフィ装置 | 2023年 5月22日 |
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7297878 7296385 7296410 7288974 7288020 7286630 7286683 7286778 7285217 7281547 7281553 7280356 7280367 7279032 7279197
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11月26日(火) - 東京 港区
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11月28日(木) -
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11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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