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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第150位 281件
(2020年:第163位 266件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第114位 242件
(2020年:第151位 191件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6824072 | 支持体、ポンプ及び支持体の固定方法 | 2021年 2月 3日 | |
特許 6825829 | 呼水栓、および呼水栓を備えるポンプ | 2021年 2月 3日 | |
特許 6826437 | 供給液体製造装置および供給液体製造方法 | 2021年 2月 3日 | |
特許 6826470 | アノード電極部材、監視装置、及び電気防食システム | 2021年 2月 3日 | |
特許 6820799 | 情報処理装置、基準データ決定装置、情報処理方法、基準データ決定方法及びプログラム | 2021年 1月27日 | |
特許 6821471 | 光軸調整方法および電子線検査装置 | 2021年 1月27日 | |
特許 6814550 | ポンプ装置 | 2021年 1月20日 | |
特許 6815817 | アノードユニットおよび該アノードユニットを備えためっき装置 | 2021年 1月20日 | |
特許 6815912 | 洗浄装置及び基板処理装置 | 2021年 1月20日 | |
特許 6817137 | 渦発生防止装置およびポンプ設備 | 2021年 1月20日 | |
特許 6817778 | 局所研磨装置、局所研磨方法およびプログラム | 2021年 1月20日 | |
特許 6817896 | 基板研磨装置および基板研磨方法 | 2021年 1月20日 | |
特許 6818614 | 基板処理装置および基板処理装置を含む基板処理システム | 2021年 1月20日 | |
特許 6811829 | ポンプを備えるシステムの制御パラメータを変更する方法、制御パラメータを管理する管理方法、表示方法、管理装置、およびシステム | 2021年 1月13日 | |
特許 6813390 | 液封式真空ポンプ | 2021年 1月13日 |
242 件中 226-240 件を表示
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6824072 6825829 6826437 6826470 6820799 6821471 6814550 6815817 6815912 6817137 6817778 6817896 6818614 6811829 6813390
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