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東京エレクトロン株式会社
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（
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■ 2025年 特許取得件数ランキング 第21位 316件
（
2024年：第25位 802件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7662211 | 液体分配及びカバレージ制御のためのシステム及び方法 | 2025年 4月15日 | |
| 特許 7662229 | 同軸透過型整列結像システム | 2025年 4月15日 | |
| 特許 7662285 | 成膜方法、処理装置及び処理システム | 2025年 4月15日 | |
| 特許 7661109 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2025年 4月14日 | |
| 特許 7660347 | 載置台の製造方法 | 2025年 4月11日 | |
| 特許 7660362 | 基板処理システム、基板処理方法、および制御プログラム | 2025年 4月11日 | |
| 特許 7660459 | 接合装置および接合方法 | 2025年 4月11日 | |
| 特許 7660021 | 校正装置及び校正方法 | 2025年 4月10日 | |
| 特許 7660257 | プラズマ処理装置、プロセッサ、制御方法、非一時的コンピュータ可読記録媒体及び電源システム | 2025年 4月10日 | |
| 特許 7658672 | 熱処理装置 | 2025年 4月 8日 | |
| 特許 7658673 | 基板処理装置及び撮像方法 | 2025年 4月 8日 | |
| 特許 7657713 | 光開始剤 | 2025年 4月 7日 | |
| 特許 7657245 | めっき処理方法およびめっき処理装置 | 2025年 4月 4日 | |
| 特許 7657353 | 加工方法及び加工装置 | 2025年 4月 4日 | |
| 特許 7656516 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2025年 4月 3日 |
323 件中 91-105 件を表示
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7662211 7662229 7662285 7661109 7660347 7660362 7660459 7660021 7660257 7658672 7658673 7657713 7657245 7657353 7656516
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