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東京エレクトロン株式会社
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（
2024年：第27位 725件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第22位 215件
（
2024年：第25位 802件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7648310 | 収容容器及び基板状センサの充電方法 | 2025年 3月18日 | |
| 特許 7648498 | 制御プログラム、制御方法、及びプラズマ処理装置 | 2025年 3月18日 | |
| 特許 7648700 | トレイ | 2025年 3月18日 | |
| 特許 7646847 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2025年 3月17日 | |
| 特許 7646868 | プラズマ処理装置、制御方法、電源システム、プログラム、及び記憶媒体 | 2025年 3月17日 | |
| 特許 7646917 | 基板処理装置、及び基板処理方法 | 2025年 3月17日 | |
| 特許 7645694 | プラズマ処理装置 | 2025年 3月14日 | |
| 特許 7645699 | 基板処理装置 | 2025年 3月14日 | |
| 特許 7645724 | プラズマ処理装置及び基板支持部 | 2025年 3月14日 | |
| 特許 7645732 | プラズマ処理装置及び処理方法 | 2025年 3月14日 | |
| 特許 7645828 | 基板処理装置および基板温度補正方法 | 2025年 3月14日 | |
| 特許 7645963 | プラズマ処理装置 | 2025年 3月14日 | |
| 特許 7645030 | 多次元レーザアニーリングを用いた高密度ロジック形成 | 2025年 3月13日 | |
| 特許 7645031 | 分注システムを監視、制御及び同期するための方法及びシステム | 2025年 3月13日 | |
| 特許 7645032 | 効率化した気化器コア | 2025年 3月13日 |
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7648310 7648498 7648700 7646847 7646868 7646917 7645694 7645699 7645724 7645732 7645828 7645963 7645030 7645031 7645032
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