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東京エレクトロン株式会社
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7671928 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2025年 5月 2日 | |
| 特許 7671929 | プラズマ処理装置及び基板処理システム | 2025年 5月 2日 | |
| 特許 7671181 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2025年 5月 1日 | |
| 特許 7670434 | スパッタ装置及びスパッタ装置の制御方法 | 2025年 4月30日 | |
| 特許 7670436 | 処理装置及び処理方法 | 2025年 4月30日 | |
| 特許 7670437 | 処理装置及びガス供給方法 | 2025年 4月30日 | |
| 特許 7670438 | 基板処理装置、及び基板処理方法 | 2025年 4月30日 | |
| 特許 7670439 | 温度補正情報算出装置、半導体製造装置、プログラム、温度補正情報算出方法 | 2025年 4月30日 | |
| 特許 7670440 | 熱処理装置の制御方法、熱処理装置の制御装置 | 2025年 4月30日 | |
| 特許 7670441 | シャワーヘッド電極組立体及びプラズマ処理装置 | 2025年 4月30日 | |
| 特許 7670449 | 異常検知装置、異常検知方法及び異常検知プログラム | 2025年 4月30日 | |
| 特許 7669171 | 校正方法及び校正システム | 2025年 4月28日 | |
| 特許 7669303 | 光路長測定誤差を補正するシステム及び方法 | 2025年 4月28日 | |
| 特許 7668682 | 温度制御装置および基板処理装置 | 2025年 4月25日 | |
| 特許 7668697 | 基板処理方法 | 2025年 4月25日 |
323 件中 46-60 件を表示
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7671928 7671929 7671181 7670434 7670436 7670437 7670438 7670439 7670440 7670441 7670449 7669171 7669303 7668682 7668697
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