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東京エレクトロン株式会社
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（
2024年：第27位 725件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第21位 316件
（
2024年：第25位 802件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7667933 | 狭小トレンチを形成する方法 | 2025年 4月24日 | |
| 特許 7667981 | 高度回路アーキテクチャのための高密度ロジック及びメモリの製造方法 | 2025年 4月24日 | |
| 特許 7668093 | 成膜方法、成膜装置、および半導体装置の製造方法 | 2025年 4月24日 | |
| 特許 7668157 | 基板支持器、プラズマ処理装置、及びプラズマ処理方法 | 2025年 4月24日 | |
| 特許 7668168 | プラズマ処理装置のチャンバ内の部品を再生する方法 | 2025年 4月24日 | |
| 特許 7668413 | 基板処理システム | 2025年 4月24日 | |
| 特許 7666133 | カップ、液処理装置及び液処理方法 | 2025年 4月22日 | |
| 特許 7666234 | 基板に成膜処理を行う装置、及び基板に成膜処理を行う装置から処理ガスを排気する方法 | 2025年 4月22日 | |
| 特許 7666864 | シリコン窒化膜の形成方法及び成膜装置 | 2025年 4月22日 | |
| 特許 7666866 | デバイス検査装置及びデバイス検査方法 | 2025年 4月22日 | |
| 特許 7666868 | 検査システムの検査方法、および検査システム | 2025年 4月22日 | |
| 特許 7667060 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理システム | 2025年 4月22日 | |
| 特許 7665312 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2025年 4月21日 | |
| 特許 7665464 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2025年 4月21日 | |
| 特許 7665757 | 現像処理装置及び現像処理方法 | 2025年 4月21日 |
323 件中 61-75 件を表示
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7667933 7667981 7668093 7668157 7668168 7668413 7666133 7666234 7666864 7666866 7666868 7667060 7665312 7665464 7665757
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