特許ランキング - 出願人詳細情報 -
東京エレクトロン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
（
2018年：第67位 588件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
（
2018年：第50位 503件）
（ランキング更新日：2020年2月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 再表 2018-135488 | 異物検出装置、異物検出方法及び記憶媒体 | 2019年12月26日 | |
| 再表 2018-163913 | コンタクトパッドの製造方法及びこれを用いた半導体装置の製造方法、並びに半導体装置 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-218593 | 金属膜の形成方法及び成膜装置 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-218616 | 制御装置、成膜装置、制御方法、成膜方法、および制御プログラム | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-218621 | 基板載置台及び成膜装置 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-219561 | マイクロレンズの製造方法およびプラズマ処理装置 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-220282 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-220289 | 有機ＥＬパネル、および有機ＥＬパネルの製造方法 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-220435 | プラズマ処理装置及びプラズマを生成する方法 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-220497 | 載置台及びプラズマ処理装置 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-220508 | エッチング方法及びプラズマ処理装置 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-220509 | 真空処理装置、真空処理システム、及び真空処理方法 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-220510 | 塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-220515 | 基板処理装置 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-220517 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2019年12月26日 |
665 件中 1-15 件を表示
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2018-135488 2018-163913 2019-218593 2019-218616 2019-218621 2019-219561 2019-220282 2019-220289 2019-220435 2019-220497 2019-220508 2019-220509 2019-220510 2019-220515 2019-220517
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