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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2025年11月14日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5916044 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2016年 5月11日 | |
| 特許 5916056 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2016年 5月11日 | |
| 特許 5916467 | マイクロ波放射アンテナ、マイクロ波プラズマ源およびプラズマ処理装置 | 2016年 5月11日 | |
| 特許 5916534 | 成膜装置 | 2016年 5月11日 | |
| 特許 5916608 | ロードロック装置 | 2016年 5月11日 | |
| 特許 5916744 | コバルト系膜形成方法 | 2016年 5月11日 | |
| 特許 5917297 | めっき処理方法、めっき処理装置および記憶媒体 | 2016年 5月11日 | |
| 特許 5917351 | 金属膜の成膜方法 | 2016年 5月11日 | |
| 特許 5910401 | 処理液供給装置の運転方法、処理液供給装置及び記憶媒体 | 2016年 4月27日 | |
| 特許 5911032 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2016年 4月27日 | |
| 特許 5911757 | 基板処理方法、基板処理装置、および記録媒体 | 2016年 4月27日 | |
| 特許 5911844 | 半導体装置のための金属含有キャップ層の表面洗浄及び選択的堆積 | 2016年 4月27日 | |
| 特許 5912403 | 塗布処理装置 | 2016年 4月27日 | |
| 特許 5912439 | 温度制御システム、半導体製造装置及び温度制御方法 | 2016年 4月27日 | |
| 特許 5912637 | 半導体装置の製造方法 | 2016年 4月27日 |
572 件中 391-405 件を表示
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5916044 5916056 5916467 5916534 5916608 5916744 5917297 5917351 5910401 5911032 5911757 5911844 5912403 5912439 5912637
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