ホーム > 特許ランキング > 東京エレクトロン株式会社 > 2016年 > 特許一覧
東京エレクトロン株式会社
※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2025年2月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5916044 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2016年 5月11日 | |
| 特許 5916056 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2016年 5月11日 | |
| 特許 5916467 | マイクロ波放射アンテナ、マイクロ波プラズマ源およびプラズマ処理装置 | 2016年 5月11日 | |
| 特許 5916534 | 成膜装置 | 2016年 5月11日 | |
| 特許 5916608 | ロードロック装置 | 2016年 5月11日 | |
| 特許 5916744 | コバルト系膜形成方法 | 2016年 5月11日 | |
| 特許 5917297 | めっき処理方法、めっき処理装置および記憶媒体 | 2016年 5月11日 | |
| 特許 5917351 | 金属膜の成膜方法 | 2016年 5月11日 | |
| 特許 5910401 | 処理液供給装置の運転方法、処理液供給装置及び記憶媒体 | 2016年 4月27日 | |
| 特許 5911032 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2016年 4月27日 | |
| 特許 5911757 | 基板処理方法、基板処理装置、および記録媒体 | 2016年 4月27日 | |
| 特許 5911844 | 半導体装置のための金属含有キャップ層の表面洗浄及び選択的堆積 | 2016年 4月27日 | |
| 特許 5912403 | 塗布処理装置 | 2016年 4月27日 | |
| 特許 5912439 | 温度制御システム、半導体製造装置及び温度制御方法 | 2016年 4月27日 | |
| 特許 5912637 | 半導体装置の製造方法 | 2016年 4月27日 |
572 件中 391-405 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
5916044 5916056 5916467 5916534 5916608 5916744 5917297 5917351 5910401 5911032 5911757 5911844 5912403 5912439 5912637
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
3月4日(火) - 東京 港区
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月5日(水) -
3月5日(水) -
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 品川区
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 港区
3月6日(木) -
3月7日(金) -
3月7日(金) - 東京 港区
3月7日(金) -
3月7日(金) -
3月4日(火) - 東京 港区
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
福岡県福岡市中央区天神2-3-10-719 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒550-0005 大阪市西区西本町１－８－１１ カクタスビル６Ｆ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
大阪府大阪市中央区南本町二丁目2番9号 辰野南本町ビル8階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
