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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5907044 | 縦型熱処理装置 | 2016年 4月20日 | |
| 特許 5901419 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | 2016年 4月13日 | |
| 特許 5901477 | 塗布、現像装置 | 2016年 4月13日 | |
| 特許 5901887 | プラズマ処理装置のクリーニング方法及びプラズマ処理方法 | 2016年 4月13日 | |
| 特許 5902896 | 基板処理装置 | 2016年 4月13日 | |
| 特許 5903504 | コンフォーマル金属ケイ化物フィルムを形成する方法 | 2016年 4月13日 | |
| 特許 5904169 | 基板洗浄装置、基板洗浄方法及び記憶媒体 | 2016年 4月13日 | |
| 特許 5904294 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2016年 4月13日 | |
| 特許 5899099 | 薬液吐出量計測用治具、薬液吐出量計測機構及び薬液吐出量計測方法 | 2016年 4月 6日 | |
| 特許 5899153 | 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2016年 4月 6日 | |
| 特許 5900370 | 塗布膜形成方法、塗布膜形成装置及び記憶媒体 | 2016年 4月 6日 | |
| 特許 5901305 | 光干渉システム、基板処理装置及び測定方法 | 2016年 4月 6日 | |
| 特許 5894445 | エッチング方法及びエッチング装置 | 2016年 3月30日 | |
| 特許 5894785 | 誘導結合プラズマ用アンテナユニットおよび誘導結合プラズマ処理装置 | 2016年 3月30日 | |
| 特許 5894825 | プローブ装置及びウエハ搬送ユニット | 2016年 3月30日 |
572 件中 421-435 件を表示
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5907044 5901419 5901477 5901887 5902896 5903504 5904169 5904294 5899099 5899153 5900370 5901305 5894445 5894785 5894825
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