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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5933222 | 温度制御方法、制御装置及びプラズマ処理装置 | 2016年 6月 8日 | |
| 特許 5933372 | 原料容器および原料容器の使用方法 | 2016年 6月 8日 | |
| 特許 5933399 | 熱処理装置 | 2016年 6月 8日 | |
| 特許 5927260 | 試料台及びマイクロ波プラズマ処理装置 | 2016年 6月 1日 | |
| 特許 5928185 | 基板搬送設備 | 2016年 6月 1日 | |
| 特許 5928283 | 基板処理装置、基板搬送方法及び記憶媒体 | 2016年 6月 1日 | |
| 特許 5925673 | シリコン膜の成膜方法および成膜装置 | 2016年 5月25日 | |
| 特許 5925704 | シリコン膜の形成方法およびその形成装置 | 2016年 5月25日 | |
| 特許 5925898 | フルオロカーボン用の金属カーバイドバリア層を形成する方法 | 2016年 5月25日 | |
| 特許 5926694 | 基板中継装置，基板中継方法，基板処理装置 | 2016年 5月25日 | |
| 特許 5926752 | 半導体装置の製造方法及び半導体製造装置 | 2016年 5月25日 | |
| 特許 5926753 | 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム | 2016年 5月25日 | |
| 特許 5926794 | 成膜方法、成膜装置、及び、成膜システム | 2016年 5月25日 | |
| 特許 5920981 | 基板処理システム | 2016年 5月24日 | |
| 特許 5921241 | プラズマ生成装置、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2016年 5月24日 |
572 件中 361-375 件を表示
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5933222 5933372 5933399 5927260 5928185 5928283 5925673 5925704 5925898 5926694 5926752 5926753 5926794 5920981 5921241
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