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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2025年10月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5939147 | 成膜装置、基板処理装置及び成膜方法 | 2016年 6月22日 | |
| 特許 5939204 | 液処理装置 | 2016年 6月22日 | |
| 特許 5934030 | プラズマ処理装置、プラズマ生成装置、アンテナ構造体、及びプラズマ生成方法 | 2016年 6月15日 | |
| 特許 5934523 | 半導体装置の製造方法及びコンピュータ記録媒体 | 2016年 6月15日 | |
| 特許 5934665 | 成膜方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び成膜システム | 2016年 6月15日 | |
| 特許 5934819 | 物理状態測定装置及び物理状態測定方法 | 2016年 6月15日 | |
| 特許 5935116 | プラズマ処理装置 | 2016年 6月15日 | |
| 特許 5935227 | 半導体装置の製造方法及び半導体装置 | 2016年 6月15日 | |
| 特許 5935676 | 基板処理装置、基板装置の運用方法及び記憶媒体 | 2016年 6月15日 | |
| 特許 5929429 | 成膜装置 | 2016年 6月 8日 | |
| 特許 5929852 | 塗布膜形成装置、塗布膜形成方法、記憶媒体 | 2016年 6月 8日 | |
| 特許 5931063 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2016年 6月 8日 | |
| 特許 5931230 | 液処理方法、液処理装置、及び記録媒体。 | 2016年 6月 8日 | |
| 特許 5931780 | 選択エピタキシャル成長法および成膜装置 | 2016年 6月 8日 | |
| 特許 5932592 | 除電用治具及びそれを用いた基板処理装置並びに基板処理装置の除電方法 | 2016年 6月 8日 |
572 件中 346-360 件を表示
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5939147 5939204 5934030 5934523 5934665 5934819 5935116 5935227 5935676 5929429 5929852 5931063 5931230 5931780 5932592
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