ホーム > 特許ランキング > 東京エレクトロン株式会社 > 2016年 > 特許一覧
東京エレクトロン株式会社
※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5939147 | 成膜装置、基板処理装置及び成膜方法 | 2016年 6月22日 | |
| 特許 5939204 | 液処理装置 | 2016年 6月22日 | |
| 特許 5934030 | プラズマ処理装置、プラズマ生成装置、アンテナ構造体、及びプラズマ生成方法 | 2016年 6月15日 | |
| 特許 5934523 | 半導体装置の製造方法及びコンピュータ記録媒体 | 2016年 6月15日 | |
| 特許 5934665 | 成膜方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び成膜システム | 2016年 6月15日 | |
| 特許 5934819 | 物理状態測定装置及び物理状態測定方法 | 2016年 6月15日 | |
| 特許 5935116 | プラズマ処理装置 | 2016年 6月15日 | |
| 特許 5935227 | 半導体装置の製造方法及び半導体装置 | 2016年 6月15日 | |
| 特許 5935676 | 基板処理装置、基板装置の運用方法及び記憶媒体 | 2016年 6月15日 | |
| 特許 5929429 | 成膜装置 | 2016年 6月 8日 | |
| 特許 5929852 | 塗布膜形成装置、塗布膜形成方法、記憶媒体 | 2016年 6月 8日 | |
| 特許 5931063 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2016年 6月 8日 | |
| 特許 5931230 | 液処理方法、液処理装置、及び記録媒体。 | 2016年 6月 8日 | |
| 特許 5931780 | 選択エピタキシャル成長法および成膜装置 | 2016年 6月 8日 | |
| 特許 5932592 | 除電用治具及びそれを用いた基板処理装置並びに基板処理装置の除電方法 | 2016年 6月 8日 |
572 件中 346-360 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
5939147 5939204 5934030 5934523 5934665 5934819 5935116 5935227 5935676 5929429 5929852 5931063 5931230 5931780 5932592
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
9月2日(火) -
9月2日(火) -
9月2日(火) - 東京 港区
9月3日(水) -
9月3日(水) -
9月3日(水) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月4日(木) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月5日(金) -
9月5日(金) -
9月6日(土) -
9月2日(火) -
9月10日(水) - 東京 港区
9月10日(水) -
9月11日(木) - 東京 江東区
9月11日(木) - 広島 広島
ますます頼りにされる商標担当者になるための３つのポイント ～ 社内の商標相談にサクサクと答えられるエッセンスを教えます ～
9月12日(金) -
9月12日(金) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
大阪府大阪市北区西天満３丁目５－１０ オフィスポート大阪８０１号 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 コンサルティング
〒330-0846 埼玉県さいたま市大宮区大門町3-205 ＡＢＣビル401 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都港区北青山2丁目7番20号 第二猪瀬ビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
