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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5921964 | プラズマ処理装置及びプローブ装置 | 2016年 5月24日 | |
| 特許 5922218 | 電源システム及びプラズマ処理装置 | 2016年 5月24日 | |
| 特許 5922542 | 積層膜の形成方法およびその形成装置 | 2016年 5月24日 | |
| 特許 5923245 | 基板除去方法及び記憶媒体 | 2016年 5月24日 | |
| 特許 5917459 | 紫外線照射装置及び基板処理方法 | 2016年 5月18日 | |
| 特許 5917946 | 基板載置台及びプラズマエッチング装置 | 2016年 5月18日 | |
| 特許 5918108 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2016年 5月18日 | |
| 特許 5918122 | パターン形成方法、パターン形成装置、及びコンピュータ可読記憶媒体 | 2016年 5月18日 | |
| 特許 5918423 | 薄膜形成装置の洗浄方法、薄膜形成方法、及び、薄膜形成装置 | 2016年 5月18日 | |
| 特許 5918682 | プローブカード取り付け方法 | 2016年 5月18日 | |
| 特許 5919113 | 塗布処理装置、塗布処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2016年 5月18日 | |
| 特許 5919210 | 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム | 2016年 5月18日 | |
| 特許 5920242 | 成膜方法及び成膜装置 | 2016年 5月18日 | |
| 特許 5920453 | 成膜装置 | 2016年 5月18日 | |
| 特許 5914037 | 冷却システム、冷却システムを備える基板処理装置及び冷却方法 | 2016年 5月11日 |
572 件中 376-390 件を表示
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5921964 5922218 5922542 5923245 5917459 5917946 5918108 5918122 5918423 5918682 5919113 5919210 5920242 5920453 5914037
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