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東京エレクトロン株式会社

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  2016年 出願公開件数ランキング    第61位 616件 下降2015年:第56位 677件)

  2016年 特許取得件数ランキング    第49位 561件 上昇2015年:第51位 433件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 5921964 プラズマ処理装置及びプローブ装置 2016年 5月24日
特許 5922218 電源システム及びプラズマ処理装置 2016年 5月24日
特許 5922542 積層膜の形成方法およびその形成装置 2016年 5月24日
特許 5923245 基板除去方法及び記憶媒体 2016年 5月24日
特許 5917459 紫外線照射装置及び基板処理方法 2016年 5月18日
特許 5917946 基板載置台及びプラズマエッチング装置 2016年 5月18日
特許 5918108 プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 2016年 5月18日
特許 5918122 パターン形成方法、パターン形成装置、及びコンピュータ可読記憶媒体 2016年 5月18日
特許 5918423 薄膜形成装置の洗浄方法、薄膜形成方法、及び、薄膜形成装置 2016年 5月18日
特許 5918682 プローブカード取り付け方法 2016年 5月18日
特許 5919113 塗布処理装置、塗布処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2016年 5月18日
特許 5919210 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム 2016年 5月18日
特許 5920242 成膜方法及び成膜装置 2016年 5月18日
特許 5920453 成膜装置 2016年 5月18日
特許 5914037 冷却システム、冷却システムを備える基板処理装置及び冷却方法 2016年 5月11日

572 件中 376-390 件を表示

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5921964 5922218 5922542 5923245 5917459 5917946 5918108 5918122 5918423 5918682 5919113 5919210 5920242 5920453 5914037

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