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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2025年9月8日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5855721 | 液処理装置および液処理方法 | 2016年 2月 9日 | |
| 特許 5856543 | エッチング方法 | 2016年 2月 9日 | |
| 特許 5850814 | 剥離システム | 2016年 2月 3日 | |
| 特許 5851052 | パターン平滑化及びインライン限界寸法のスリム化のための蒸気処理プロセス | 2016年 2月 3日 | |
| 特許 5851377 | ヒータ異常判別システム、及び、ヒータ異常判別方法 | 2016年 2月 3日 | |
| 特許 5851681 | プラズマ処理装置 | 2016年 2月 3日 | |
| 特許 5851682 | プラズマ処理装置 | 2016年 2月 3日 | |
| 特許 5851804 | 前処理方法、グラフェンの形成方法及びグラフェン製造装置 | 2016年 2月 3日 | |
| 特許 5851899 | プラズマ処理装置 | 2016年 2月 3日 | |
| 特許 5851951 | エッチング方法、エッチング装置、および記憶媒体 | 2016年 2月 3日 | |
| 特許 5852737 | 製造設備の監視装置及び監視方法 | 2016年 2月 3日 | |
| 特許 5847661 | 基板の位置調整装置、基板の位置調整方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2016年 1月27日 | |
| 特許 5847681 | 薬液吐出量計測用治具、薬液吐出量計測機構及び薬液吐出量計測方法 | 2016年 1月27日 | |
| 特許 5847738 | 基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2016年 1月27日 | |
| 特許 5848140 | プラズマ処理装置 | 2016年 1月27日 |
572 件中 541-555 件を表示
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5855721 5856543 5850814 5851052 5851377 5851681 5851682 5851804 5851899 5851951 5852737 5847661 5847681 5847738 5848140
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