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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2025年11月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5848982 | プラズマ処理装置及びプラズマのモニタリング方法 | 2016年 1月27日 | |
| 特許 5844436 | 化学流体処理装置及び化学流体処理方法 | 2016年 1月20日 | |
| 特許 5844681 | 基板液処理装置及び基板液処理方法 | 2016年 1月20日 | |
| 特許 5845754 | プラズマエッチング処理方法 | 2016年 1月20日 | |
| 特許 5847487 | 弁体、ゲートバルブ、及び基板処理システム | 2016年 1月20日 | |
| 特許 5841449 | 拭き取りパッド及びこのパッドを用いたノズルメンテナンス装置並びに塗布処理装置 | 2016年 1月13日 | |
| 特許 5842750 | 成膜方法、成膜装置及び記憶媒体 | 2016年 1月13日 | |
| 特許 5843277 | 半導体基板の超臨界乾燥方法及び装置 | 2016年 1月13日 | |
| 特許 5843626 | ガス供給ヘッド及び基板処理装置 | 2016年 1月13日 | |
| 特許 5843627 | ガス供給ヘッド及び基板処理装置 | 2016年 1月13日 | |
| 特許 5839514 | 成膜方法、成膜装置、および成膜装置の使用方法 | 2016年 1月 6日 | |
| 特許 5839606 | 窒化膜を形成する方法 | 2016年 1月 6日 | |
| 特許 5839689 | プラズマエッチング方法及び半導体装置の製造方法並びにコンピュータ記憶媒体 | 2016年 1月 6日 | |
| 特許 5839804 | 半導体装置の製造方法、および半導体装置 | 2016年 1月 6日 | |
| 特許 5840563 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | 2016年 1月 6日 |
572 件中 556-570 件を表示
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5848982 5844436 5844681 5845754 5847487 5841449 5842750 5843277 5843626 5843627 5839514 5839606 5839689 5839804 5840563
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