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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5870000 | 剥離装置、剥離システムおよび剥離方法 | 2016年 2月24日 | |
| 特許 5864232 | 液処理装置および液処理方法 | 2016年 2月17日 | |
| 特許 5864355 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2016年 2月17日 | |
| 特許 5864360 | シリコン膜の形成方法およびその形成装置 | 2016年 2月17日 | |
| 特許 5864668 | 凹状部分を有した被処理体上へのシリコン膜の成膜方法 | 2016年 2月17日 | |
| 特許 5864879 | 基板処理装置及びその制御方法 | 2016年 2月17日 | |
| 特許 5865596 | 粒子捕捉ユニット、該粒子捕捉ユニットの製造方法及び基板処理装置 | 2016年 2月17日 | |
| 特許 5859792 | プラズマエッチング方法 | 2016年 2月16日 | |
| 特許 5859927 | 成膜方法及び成膜装置 | 2016年 2月16日 | |
| 特許 5860392 | プラズマ窒化処理方法及びプラズマ窒化処理装置 | 2016年 2月16日 | |
| 特許 5860431 | 接合装置、接合システムおよび接合方法 | 2016年 2月16日 | |
| 特許 5860668 | 半導体装置の製造方法 | 2016年 2月16日 | |
| 特許 5861583 | 成膜装置及び成膜方法 | 2016年 2月16日 | |
| 特許 5861738 | 塗布、現像装置 | 2016年 2月16日 | |
| 特許 5861762 | 成膜装置、成膜方法、回転数の最適化方法及び記憶媒体 | 2016年 2月16日 |
572 件中 511-525 件を表示
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5870000 5864232 5864355 5864360 5864668 5864879 5865596 5859792 5859927 5860392 5860431 5860668 5861583 5861738 5861762
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【大阪会場】 前田知財塾 ～スキルアップ編～ 知財の仕事を、もっと深く、もっと面白く！ 第1回 「発明発掘・権利化業務」
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11月28日(金) - 東京 千代田区
11月28日(金) -
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