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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2025年11月14日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5870568 | 成膜装置、プラズマ処理装置、成膜方法及び記憶媒体 | 2016年 3月 1日 | |
| 特許 5871453 | プラズマ処理装置，基板保持機構，基板位置ずれ検出方法 | 2016年 3月 1日 | |
| 特許 5871844 | 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム | 2016年 3月 1日 | |
| 特許 5871845 | 基板搬送装置、基板処理装置、基板取出方法および記憶媒体 | 2016年 3月 1日 | |
| 特許 5872141 | 基板処理装置、その制御装置およびその制御方法 | 2016年 3月 1日 | |
| 特許 5872405 | コネクタ | 2016年 3月 1日 | |
| 特許 5872904 | ＴｉＮ膜の成膜方法および記憶媒体 | 2016年 3月 1日 | |
| 特許 5872983 | 塗布装置 | 2016年 3月 1日 | |
| 特許 5867462 | 液処理装置 | 2016年 2月24日 | |
| 特許 5867473 | 塗布、現像装置、塗布、現像装置の運転方法及び記憶媒体 | 2016年 2月24日 | |
| 特許 5867701 | プラズマ処理装置 | 2016年 2月24日 | |
| 特許 5868619 | 熱処理炉及び熱処理装置 | 2016年 2月24日 | |
| 特許 5869250 | 印刷装置、印刷方法及びその印刷方法を実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2016年 2月24日 | |
| 特許 5869943 | 基板保持装置および基板保持方法 | 2016年 2月24日 | |
| 特許 5869960 | 接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2016年 2月24日 |
572 件中 496-510 件を表示
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5870568 5871453 5871844 5871845 5872141 5872405 5872904 5872983 5867462 5867473 5867701 5868619 5869250 5869943 5869960
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