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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5862353 | 半導体装置の製造方法 | 2016年 2月16日 | |
| 特許 5862459 | 成膜方法 | 2016年 2月16日 | |
| 特許 5862529 | 基板処理装置及びガス供給装置 | 2016年 2月16日 | |
| 特許 5863101 | Ｘ線非破壊検査装置 | 2016年 2月16日 | |
| 特許 5863582 | プラズマ処理装置、及び温度制御方法 | 2016年 2月16日 | |
| 特許 5857001 | 基板処理装置、基板処理方法及び基板処理用記録媒体 | 2016年 2月10日 | |
| 特許 5857776 | 基板保持具及び縦型熱処理装置並びに縦型熱処理装置の運転方法 | 2016年 2月10日 | |
| 特許 5857864 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 | 2016年 2月10日 | |
| 特許 5857896 | 成膜装置の運転方法及び成膜装置 | 2016年 2月10日 | |
| 特許 5858103 | 基板搬送装置、基板搬送方法及び記憶媒体 | 2016年 2月10日 | |
| 特許 5859262 | 堆積物除去方法 | 2016年 2月10日 | |
| 特許 5859389 | 塗布装置および塗布液充填方法 | 2016年 2月10日 | |
| 特許 5853971 | 液供給装置 | 2016年 2月 9日 | |
| 特許 5854087 | フィルタ内の気体の除去方法及びその装置 | 2016年 2月 9日 | |
| 特許 5854112 | 薄膜の形成方法及び成膜装置 | 2016年 2月 9日 |
572 件中 526-540 件を表示
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5862353 5862459 5862529 5863101 5863582 5857001 5857776 5857864 5857896 5858103 5859262 5859389 5853971 5854087 5854112
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