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東京エレクトロン株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第83位 585件
（
2016年：第61位 616件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第66位 431件
（2016年：第49位 561件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6204226 | 基板処理装置、基板処理方法 | 2017年 9月27日 | |
| 特許 6204269 | 送液システムの洗浄方法、送液システム、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2017年 9月27日 | |
| 特許 6204869 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2017年 9月27日 | |
| 特許 6204881 | 被処理体を処理する方法 | 2017年 9月27日 | |
| 特許 6205225 | 基板検査装置及び基板温度調整方法 | 2017年 9月27日 | |
| 特許 6198456 | 基板の処理方法及びテンプレート | 2017年 9月20日 | |
| 特許 6199199 | 基板処理装置、位置ずれ補正方法及び記憶媒体 | 2017年 9月20日 | |
| 特許 6199250 | 被処理体を処理する方法 | 2017年 9月20日 | |
| 特許 6199479 | 細胞培養容器 | 2017年 9月20日 | |
| 特許 6195481 | クリーニング方法及び基板処理装置 | 2017年 9月13日 | |
| 特許 6195528 | プラズマ処理装置及びその運転方法 | 2017年 9月13日 | |
| 特許 6195803 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | 2017年 9月13日 | |
| 特許 6195806 | 塗布装置 | 2017年 9月13日 | |
| 特許 6196106 | シリコン酸化膜の製造方法 | 2017年 9月13日 | |
| 特許 6196173 | 基板処理システム、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2017年 9月13日 |
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6204226 6204269 6204869 6204881 6205225 6198456 6199199 6199250 6199479 6195481 6195528 6195803 6195806 6196106 6196173
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