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東京エレクトロン株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第83位 585件
（
2016年：第61位 616件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第66位 431件
（2016年：第49位 561件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6211960 | 制御装置、基板処理装置及び基板処理システム | 2017年10月11日 | |
| 特許 6211973 | 成膜装置 | 2017年10月11日 | |
| 特許 6212066 | 塗布処理方法、コンピュータ記憶媒体及び塗布処理装置 | 2017年10月11日 | |
| 特許 6212092 | 基板処理システム、フォーカスリングの温度制御方法及び基板のエッチング方法 | 2017年10月11日 | |
| 特許 6206316 | 塗布装置、塗布方法及び記憶媒体 | 2017年10月 4日 | |
| 特許 6207490 | 電子デバイスパターンの印刷装置及びその印刷方法 | 2017年10月 4日 | |
| 特許 6207947 | 被処理体をプラズマ処理する方法 | 2017年10月 4日 | |
| 特許 6208588 | 支持機構及び基板処理装置 | 2017年10月 4日 | |
| 特許 6208591 | インジェクタ保持構造及びこれを用いた基板処理装置 | 2017年10月 4日 | |
| 特許 6209043 | ゲートバルブおよび基板処理装置 | 2017年10月 4日 | |
| 特許 6209546 | 基板処理システム、欠陥検査方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2017年10月 4日 | |
| 特許 6203476 | 基板温度制御方法及びプラズマ処理装置 | 2017年 9月27日 | |
| 特許 6203667 | 基板液処理装置及び基板液処理方法 | 2017年 9月27日 | |
| 特許 6203893 | 液処理装置および洗浄方法 | 2017年 9月27日 | |
| 特許 6204213 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2017年 9月27日 |
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6211960 6211973 6212066 6212092 6206316 6207490 6207947 6208588 6208591 6209043 6209546 6203476 6203667 6203893 6204213
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