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東京エレクトロン株式会社
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第67位 588件
（
2017年：第83位 585件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第50位 503件
（2017年：第66位 431件）
（ランキング更新日：2025年9月18日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6378234 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2018年 8月22日 | |
| 特許 6378294 | 基板洗浄装置、基板洗浄システム、基板洗浄方法および記憶媒体 | 2018年 8月22日 | |
| 特許 6378389 | プラズマ処理装置用の部品の製造方法 | 2018年 8月22日 | |
| 特許 6378595 | 基板搬送装置 | 2018年 8月22日 | |
| 特許 6378610 | 熱処理装置 | 2018年 8月22日 | |
| 特許 6378639 | 処理システム、処理方法、及び、プログラム | 2018年 8月22日 | |
| 特許 6378942 | 載置台及びプラズマ処理装置 | 2018年 8月22日 | |
| 特許 6379080 | ＥＵＶレジストエッチング耐久性を向上しパターン崩壊の軽減するパターン化の方法。 | 2018年 8月22日 | |
| 特許 6373150 | 基板処理システム及び基板処理方法 | 2018年 8月15日 | |
| 特許 6373160 | プラズマ処理装置 | 2018年 8月15日 | |
| 特許 6373803 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | 2018年 8月15日 | |
| 特許 6374188 | 封止構造の形成方法、封止構造の製造装置、並びに有機ＥＬ素子構造の製造方法、及びその製造装置 | 2018年 8月15日 | |
| 特許 6374301 | ステージ、ステージの製造方法、熱交換器 | 2018年 8月15日 | |
| 特許 6374647 | プラズマ処理装置 | 2018年 8月15日 | |
| 特許 6374775 | 基板搬送システム及びこれを用いた熱処理装置 | 2018年 8月15日 |
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6378234 6378294 6378389 6378595 6378610 6378639 6378942 6379080 6373150 6373160 6373803 6374188 6374301 6374647 6374775
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点（米国・欧州（EPC)・中国）～米国ならびに EPC （欧州特許条約）・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します～
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