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東京エレクトロン株式会社
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第67位 588件
（
2017年：第83位 585件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第50位 503件
（2017年：第66位 431件）
（ランキング更新日：2025年5月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6390472 | 成膜方法、成膜装置及び記憶媒体 | 2018年 9月19日 | |
| 特許 6390732 | 処理液供給装置 | 2018年 9月19日 | |
| 特許 6391261 | ＤＣパルスエッチング装置 | 2018年 9月19日 | |
| 特許 6391263 | プラズマ処理用のプラズマ調整ロッド及びマイクロ波処理システム | 2018年 9月19日 | |
| 特許 6391355 | タングステン膜の成膜方法 | 2018年 9月19日 | |
| 特許 6391558 | 熱処理装置、基板を熱処理する方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2018年 9月19日 | |
| 特許 6392035 | 基板液処理装置 | 2018年 9月19日 | |
| 特許 6392061 | 電子デバイス、その製造方法、及びその製造装置 | 2018年 9月19日 | |
| 特許 6392143 | 基板処理装置、基板処理方法および基板処理方法を実行させるプログラムが記録された記憶媒体 | 2018年 9月19日 | |
| 特許 6392266 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2018年 9月19日 | |
| 特許 6392683 | 凹部を充填する方法及び処理装置 | 2018年 9月19日 | |
| 特許 6393161 | 成膜装置 | 2018年 9月19日 | |
| 特許 6393238 | 基板液処理装置、基板液処理方法および記憶媒体 | 2018年 9月19日 | |
| 特許 6393574 | エッチング方法 | 2018年 9月19日 | |
| 特許 6393632 | ＩＶ族半導体の結晶化方法および成膜装置 | 2018年 9月19日 |
507 件中 136-150 件を表示
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6390472 6390732 6391261 6391263 6391355 6391558 6392035 6392061 6392143 6392266 6392683 6393161 6393238 6393574 6393632
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