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東京エレクトロン株式会社
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第67位 588件
（
2017年：第83位 585件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第50位 503件
（2017年：第66位 431件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6393661 | 基板液処理装置 | 2018年 9月19日 | |
| 特許 6388552 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2018年 9月12日 | |
| 特許 6388553 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2018年 9月12日 | |
| 特許 6389608 | Ｔｉ膜の成膜方法 | 2018年 9月12日 | |
| 特許 6384200 | 現像方法、現像装置、及び記憶媒体 | 2018年 9月 5日 | |
| 特許 6384414 | 基板加熱装置、基板加熱方法、記憶媒体 | 2018年 9月 5日 | |
| 特許 6385714 | 基板液処理装置、基板液処理装置の洗浄方法及び記憶媒体 | 2018年 9月 5日 | |
| 特許 6385748 | 熱処理装置及び熱処理方法 | 2018年 9月 5日 | |
| 特許 6385856 | Ｃｕ配線の形成方法および半導体装置の製造方法 | 2018年 9月 5日 | |
| 特許 6385915 | エッチング方法 | 2018年 9月 5日 | |
| 特許 6386133 | ラップアラウンド接点集積方式 | 2018年 9月 5日 | |
| 特許 6386287 | プラズマの安定性判定方法及びプラズマ処理装置 | 2018年 9月 5日 | |
| 特許 6386632 | プラズマ処理装置 | 2018年 9月 5日 | |
| 特許 6387329 | 基板処理装置およびノズル洗浄方法 | 2018年 9月 5日 | |
| 特許 6379550 | 成膜装置 | 2018年 8月29日 |
507 件中 151-165 件を表示
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6393661 6388552 6388553 6389608 6384200 6384414 6385714 6385748 6385856 6385915 6386133 6386287 6386632 6387329 6379550
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