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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6960813 | グラフェン構造体の形成方法および形成装置 | 2021年11月 5日 | |
| 特許 6960839 | 半導体装置の製造方法 | 2021年11月 5日 | |
| 特許 6960873 | 半導体製造システム及びサーバ装置 | 2021年11月 5日 | |
| 特許 6961025 | 基板処理システム | 2021年11月 5日 | |
| 特許 6961046 | 接合装置のパラメータ調整方法、接合装置および接合システム | 2021年11月 5日 | |
| 特許 6961058 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2021年11月 5日 | |
| 特許 6961362 | 基板処理装置 | 2021年11月 5日 | |
| 特許 6956288 | 基板処理方法、プラズマ処理装置、及びエッチングガス組成物 | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6956551 | 酸化膜除去方法および除去装置、ならびにコンタクト形成方法およびコンタクト形成システム | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6956592 | シリコン酸化膜を形成する方法および装置 | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6956603 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6956660 | クリーニング方法及び成膜装置 | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6956696 | パーティクル発生抑制方法及び真空装置 | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6956788 | 基板処理方法及び基板処理システム | 2021年11月 2日 | |
| 特許 6956806 | データ処理装置、データ処理方法及びプログラム | 2021年11月 2日 |
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6960813 6960839 6960873 6961025 6961046 6961058 6961362 6956288 6956551 6956592 6956603 6956660 6956696 6956788 6956806
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