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東京エレクトロン株式会社
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第25位 842件
（
2021年：第33位 878件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第38位 690件
（2021年：第45位 515件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7156620 | 微細パターンを有する基板にシリコン膜を形成する方法 | 2022年10月19日 | |
| 特許 7157127 | ピック、搬送装置及びプラズマ処理システム | 2022年10月19日 | |
| 特許 7155354 | プラズマ処理装置、プロセッサ、制御方法、非一時的コンピュータ可読記録媒体及びプログラム | 2022年10月18日 | |
| 特許 7154055 | 成膜方法及び成膜装置 | 2022年10月17日 | |
| 特許 7154081 | マスクの形成方法 | 2022年10月17日 | |
| 特許 7154105 | クリーニング方法及びプラズマ処理装置 | 2022年10月17日 | |
| 特許 7154114 | 半導体メモリの製造方法 | 2022年10月17日 | |
| 特許 7154116 | 原料タンクの監視装置及び原料タンクの監視方法 | 2022年10月17日 | |
| 特許 7154119 | 制御方法及びプラズマ処理装置 | 2022年10月17日 | |
| 特許 7154159 | 成膜方法および成膜装置 | 2022年10月17日 | |
| 特許 7154160 | 温度測定機構、温度測定方法、およびステージ装置 | 2022年10月17日 | |
| 特許 7154409 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2022年10月17日 | |
| 特許 7154416 | 基板処理装置及び処理条件調整方法 | 2022年10月17日 | |
| 特許 7153499 | 酸素含有被処理体の処理方法及び処理装置 | 2022年10月14日 | |
| 特許 7153521 | 基板処理装置及び検査方法 | 2022年10月14日 |
693 件中 151-165 件を表示
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7156620 7157127 7155354 7154055 7154081 7154105 7154114 7154116 7154119 7154159 7154160 7154409 7154416 7153499 7153521
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