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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第31位 722件
(2022年:第25位 842件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第32位 762件
(2022年:第38位 690件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2023-124495 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 | 2023年 9月 6日 | |
特開 2023-123190 | 基板処理装置 | 2023年 9月 5日 | |
特開 2023-123635 | プラズマ処理装置 | 2023年 9月 5日 | |
特開 2023-121926 | 処理方法及び処理システム | 2023年 9月 1日 | |
特開 2023-121438 | パーティクル検知方法、コンピュータ記憶媒体及び基板処理装置 | 2023年 8月31日 | |
特開 2023-121564 | プラズマ処理装置及びプログラム | 2023年 8月31日 | |
特開 2023-121571 | 基板処理システム、基板処理方法及び記録媒体 | 2023年 8月31日 | |
特開 2023-121650 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理システム | 2023年 8月31日 | |
特開 2023-121707 | 基板処理システム及び基板処理方法 | 2023年 8月31日 | |
特開 2023-121729 | 測定方法、測定器及び測定システム | 2023年 8月31日 | |
特開 2023-120622 | 成膜方法および成膜装置 | 2023年 8月30日 | |
特開 2023-120921 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2023年 8月30日 | |
特表 2023-536991 | 不動態化インタフェースギャップを用いた抵抗変化素子及びその製造方法 | 2023年 8月30日 | |
特開 2023-119615 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2023年 8月29日 | |
特開 2023-119621 | プラズマ処理装置 | 2023年 8月29日 |
725 件中 211-225 件を表示
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2023-124495 2023-123190 2023-123635 2023-121926 2023-121438 2023-121564 2023-121571 2023-121650 2023-121707 2023-121729 2023-120622 2023-120921 2023-536991 2023-119615 2023-119621
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2月22日(土) - 東京 板橋区
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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