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東京エレクトロン株式会社
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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第31位 722件
（
2022年：第25位 842件）
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第32位 762件
（
2022年：第38位 690件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2023-119940 | 基板処理装置、および基板処理方法 | 2023年 8月29日 | |
| 特開 2023-119093 | プラズマ処理装置 | 2023年 8月28日 | |
| 特開 2023-119134 | プラズマ処理装置 | 2023年 8月28日 | |
| 特開 2023-119497 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2023年 8月28日 | |
| 特開 2023-118553 | プラズマ処理装置 | 2023年 8月25日 | |
| 特開 2023-118554 | シリコン窒化膜の形成方法及び成膜装置 | 2023年 8月25日 | |
| 特開 2023-118711 | 基板処理装置 | 2023年 8月25日 | |
| 特開 2023-118715 | 基板処理装置およびその製造方法 | 2023年 8月25日 | |
| 特開 2023-118762 | 基板処理装置 | 2023年 8月25日 | |
| 特開 2023-118801 | ノズル、吐出口部材およびノズルアーム | 2023年 8月25日 | |
| 特開 2023-118877 | 塗布装置及び塗布方法 | 2023年 8月25日 | |
| 特開 2023-118878 | 監視装置、基板処理装置、監視方法、及び記憶媒体 | 2023年 8月25日 | |
| 特開 2023-118883 | プラズマ処理装置 | 2023年 8月25日 | |
| 特開 2023-117560 | 成膜方法及び成膜装置 | 2023年 8月24日 | |
| 特開 2023-117618 | 成膜方法及び成膜システム | 2023年 8月24日 |
725 件中 226-240 件を表示
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2023-119940 2023-119093 2023-119134 2023-119497 2023-118553 2023-118554 2023-118711 2023-118715 2023-118762 2023-118801 2023-118877 2023-118878 2023-118883 2023-117560 2023-117618
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