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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2023-539546	ウェーハ間接合のための装置及び方法	2023年 9月15日
特開 2023-127833	基板処理装置	2023年 9月14日
特開 2023-128504	基板搬送方法、および半導体製造システム	2023年 9月14日
特開 2023-128751	絶縁膜の形成方法および基板処理システム	2023年 9月14日
特開 2023-129234	プラズマ処理装置	2023年 9月14日
特開 2023-129235	基板処理システム及び基板処理方法	2023年 9月14日
特開 2023-129244	基板処理装置及び処理液容器交換方法	2023年 9月14日
特開 2023-129681	エッチング方法及びプラズマ処理システム	2023年 9月14日
特表 2023-539512	半導体膜厚を制御する方法	2023年 9月14日
特開 2023-127323	膜の厚さを測定する方法、及び、処理装置	2023年 9月13日
特開 2023-127349	ハードマスク、基板処理方法、およびハードマスクの除去方法	2023年 9月13日
特開 2023-127546	プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置	2023年 9月13日
特表 2023-539277	ガスクラスター補助プラズマ処理	2023年 9月13日
特表 2023-538535	半導体デバイス用の、選択された分極を有する誘電体材料を形成する方法	2023年 9月 8日
特開 2023-126270	基板処理方法、基板処理装置及び基板処理システム	2023年 9月 7日

725 件中 196-210 件を表示

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2023-539546 2023-127833 2023-128504 2023-128751 2023-129234 2023-129235 2023-129244 2023-129681 2023-539512 2023-127323 2023-127349 2023-127546 2023-539277 2023-538535 2023-126270

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