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東京エレクトロン株式会社
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（
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7371172 | 基板処理装置 | 2023年10月30日 | |
| 特許 7369895 | 高度なコンタクトにおけるキャップ層形成のためのエリア選択的堆積 | 2023年10月27日 | |
| 特許 7369896 | プラズマ処理のための制御のシステム及び方法 | 2023年10月27日 | |
| 特許 7369899 | 半導体デバイス用の結晶学的に安定化された強誘電性ハフニウムジルコニウムベースの膜を形成する方法 | 2023年10月27日 | |
| 特許 7370228 | プラズマ処理装置 | 2023年10月27日 | |
| 特許 7370233 | 基板搬送装置及び基板処理システム | 2023年10月27日 | |
| 特許 7370259 | 基板処理装置 | 2023年10月27日 | |
| 特許 7370270 | 基板保持機構及び基板処理装置 | 2023年10月27日 | |
| 特許 7370271 | 基板位置決め装置、基板位置決め方法および接合装置 | 2023年10月27日 | |
| 特許 7370449 | 基板処理装置、及び基板処理方法 | 2023年10月27日 | |
| 特許 7369645 | 加工方法及び加工装置 | 2023年10月26日 | |
| 特許 7365815 | 載置台及び基板処理装置 | 2023年10月20日 | |
| 特許 7365820 | クリーニング方法及び基板処理装置 | 2023年10月20日 | |
| 特許 7365822 | 基板処理システム | 2023年10月20日 | |
| 特許 7365825 | 基板を処理する方法および装置 | 2023年10月20日 |
764 件中 121-135 件を表示
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7371172 7369895 7369896 7369899 7370228 7370233 7370259 7370270 7370271 7370449 7369645 7365815 7365820 7365822 7365825
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