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東京エレクトロン株式会社
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7361856 | プラズマ処理装置 | 2023年10月16日 | |
| 特許 7361865 | 基板処理システム | 2023年10月16日 | |
| 特許 7361892 | 基板処理システムおよび基板処理方法 | 2023年10月16日 | |
| 特許 7361896 | パターン形成方法及びパターン形成システム | 2023年10月16日 | |
| 特許 7360799 | レジストパターンをシミュレーションする方法、レジスト材料の組成の最適化方法、及び放射線の照射条件又は目標パターンの最適化方法 | 2023年10月13日 | |
| 特許 7360934 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2023年10月13日 | |
| 特許 7360970 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2023年10月13日 | |
| 特許 7360973 | 現像処理装置及び現像処理方法 | 2023年10月13日 | |
| 特許 7360979 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2023年10月13日 | |
| 特許 7361002 | プラズマ処理装置 | 2023年10月13日 | |
| 特許 7361130 | 基板処理装置、基板処理方法、及び記憶媒体 | 2023年10月13日 | |
| 特許 7359000 | 基板を処理する装置、及び基板を処理する方法 | 2023年10月11日 | |
| 特許 7359680 | 熱処理装置及び処理方法 | 2023年10月11日 | |
| 特許 7357844 | 流体分配及びカバレージ制御のためのシステム及び方法 | 2023年10月10日 | |
| 特許 7357845 | ウェットエッチングのための光子的に調整されたエッチング液の反応性 | 2023年10月10日 |
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7361856 7361865 7361892 7361896 7360799 7360934 7360970 7360973 7360979 7361002 7361130 7359000 7359680 7357844 7357845
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