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東京エレクトロン株式会社
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第35位 566件
（
2024年：第27位 725件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第20位 740件
（
2024年：第25位 802件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7744101 | 液滴吐出装置、パラメータ算出方法、基板処理システム | 2025年 9月25日 | |
| 特許 7744102 | 成膜方法及び成膜装置 | 2025年 9月25日 | |
| 特許 7743141 | 空間原子層堆積 | 2025年 9月24日 | |
| 特許 7743144 | 半導体デバイス用の、選択された分極を有する誘電体材料を形成する方法 | 2025年 9月24日 | |
| 特許 7743379 | 基板処理装置及び基板処理装置のメンテナンス方法 | 2025年 9月24日 | |
| 特許 7742328 | 処理方法及び処理システム | 2025年 9月19日 | |
| 特許 7742438 | 熱処理装置、熱処理方法及び記憶媒体 | 2025年 9月19日 | |
| 特許 7739856 | 基板に成膜を行う装置及び基板に成膜を行う方法 | 2025年 9月17日 | |
| 特許 7740042 | 基板の表面にルテニウムシリサイド膜を形成する方法、及び装置 | 2025年 9月17日 | |
| 特許 7740452 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2025年 9月17日 | |
| 特許 7740821 | 成膜装置 | 2025年 9月17日 | |
| 特許 7740822 | プラズマ処理装置及び成膜方法 | 2025年 9月17日 | |
| 特許 7740823 | 流量計校正システム、基板処理装置および流量計校正方法 | 2025年 9月17日 | |
| 特許 7740827 | スパッタ成膜装置及びスパッタ成膜方法 | 2025年 9月17日 | |
| 特許 7740828 | 交換装置、処理装置、及び交換方法 | 2025年 9月17日 |
748 件中 106-120 件を表示
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7744101 7744102 7743141 7743144 7743379 7742328 7742438 7739856 7740042 7740452 7740821 7740822 7740823 7740827 7740828
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