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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第198位 187件
(2021年:第341位 108件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第512位 53件
(2021年:第407位 63件)
(ランキング更新日:2025年2月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2022-180577 | 半導体デバイス製造における酸化スズ膜 | 2022年12月 6日 | |
特開 2022-180585 | デザイナー原子層エッチング | 2022年12月 6日 | |
特表 2022-550568 | 高性能EUVフォトレジストのための高EUV吸収体による基板の表面修飾 | 2022年12月 2日 | |
特表 2022-550336 | 基板支持物の温度分布プロファイルに影響を及ぼす調節できる熱遮蔽物および調節できない熱遮蔽物 | 2022年12月 1日 | |
特表 2022-550449 | リップシールプレートアウトを防止するためのウエハ遮蔽 | 2022年12月 1日 | |
特表 2022-550057 | 高アスペクト比フィーチャの製造中に劣化を防止するためのマスク封入 | 2022年11月30日 | |
特表 2022-550201 | 変圧器および/または変圧器結合コンバイナを含む無線周波数分配回路 | 2022年11月30日 | |
特表 2022-549793 | 光干渉法および反射率測定法を使用した半導体機器の自律プロセス制御および最適化のためのシステムおよび方法 | 2022年11月29日 | |
特表 2022-549368 | リモートプラズマを用いる選択的グラフェン堆積 | 2022年11月24日 | |
特表 2022-547950 | 人工知能を用いたin-situセンサ融合 | 2022年11月16日 | |
特表 2022-547953 | 原子層エッチングおよびイオンビームエッチングのパターニング | 2022年11月16日 | |
特表 2022-547969 | 基板処理システムの処理チャンバの整合を改善するための流量計測較正 | 2022年11月16日 | |
特表 2022-547489 | 半導体装置用の収着チャンバ壁 | 2022年11月14日 | |
特表 2022-547281 | 犠牲ブレーシング、表面保護、および、キュータイム管理のための小分子膜 | 2022年11月11日 | |
特表 2022-547025 | モリブデン堆積 | 2022年11月10日 |
188 件中 16-30 件を表示
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2022-180577 2022-180585 2022-550568 2022-550336 2022-550449 2022-550057 2022-550201 2022-549793 2022-549368 2022-547950 2022-547953 2022-547969 2022-547489 2022-547281 2022-547025
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