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ラム　リサーチ　コーポレーション

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公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2022-536677	プラズマ処理チャンバ構成部品のためのシーラント被膜	2022年 8月18日
特開 2022-120077	半導体基板を処理するための装置および方法	2022年 8月17日
特開 2022-120080	開放空間均圧化通路および側方閉じ込めを備えた平坦な基板縁部接触部	2022年 8月17日
特表 2022-536480	プラズマチャンバ内の基板支持部に対する光ファイバを介した電力およびデータ伝送	2022年 8月17日
特表 2022-536516	ＲＦ電力損失を補償するためのシステムおよび方法	2022年 8月17日
特表 2022-536293	マルチステーション半導体処理における独立して調整可能な流路コンダクタンス	2022年 8月15日
特表 2022-535222	基板処理システムの静電チャックの温度を監視するためのＲＦ免疫センサプローブ	2022年 8月 5日
特表 2022-535282	ＫＨＺＲＦ発生器の動作サイクル内でＭＨＺＲＦ発生器を調節するためのシステムおよび方法	2022年 8月 5日
特表 2022-534843	フォトレジスト接着および線量低減のための下層	2022年 8月 4日
特表 2022-535129	可変インダクタ装置	2022年 8月 4日
特表 2022-534738	回転アライメントを必要とするエッジリングの自動搬送	2022年 8月 3日
特表 2022-534793	原子層堆積時における膜特性の原位置制御	2022年 8月 3日
特表 2022-534564	均一性調整のためのシャワーヘッドインサート	2022年 8月 2日
特表 2022-533834	核生成のないタングステン堆積	2022年 7月26日
特表 2022-533641	作動空気を使用した空気作動弁の冷却	2022年 7月25日

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2022-536677 2022-120077 2022-120080 2022-536480 2022-536516 2022-536293 2022-535222 2022-535282 2022-534843 2022-535129 2022-534738 2022-534793 2022-534564 2022-533834 2022-533641

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