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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2022-533699 | SiCxOyのための核形成層としてのSixNy | 2022年 7月25日 | |
特表 2022-533126 | 二次電子発生のために様々な平均自由行程を有する介在層または多層積層を用いる極端紫外線(EUV)リソグラフィ | 2022年 7月21日 | |
特開 2022-106941 | メインRF発生器およびエッジRF発生器を同期させることによってプラズマチャンバ内のエッジ領域に関連する予め定められた要素を達成するためのシステムおよび方法 | 2022年 7月20日 | |
特表 2022-532943 | 光学プローブを含む電気化学的堆積システム | 2022年 7月20日 | |
特表 2022-532794 | パージを伴う腐食性ガス用の蒸気アキュムレータ | 2022年 7月19日 | |
特表 2022-532159 | マルチレベルRF電力パルシングのために高周波(RF)信号発生器の自動周波数調整を行う方法およびシステム | 2022年 7月13日 | |
特開 2022-105059 | 静電チャック接合のための永久二次浸食封じ込め | 2022年 7月12日 | |
特開 2022-101465 | フォトレジスト接着および線量低減のための下層 | 2022年 7月 6日 | |
特表 2022-531127 | RFプラズマ・ツールにおける複数レベルのパルス化のためのシステム及び方法 | 2022年 7月 6日 | |
特表 2022-531286 | 閉ループ多出力無線周波数(RF)整合 | 2022年 7月 6日 | |
特表 2022-531447 | 基板処理システム用フィルタボックス | 2022年 7月 6日 | |
特表 2022-530906 | 静電チャックシステム | 2022年 7月 4日 | |
特表 2022-530803 | 二重周波数、直接駆動誘導結合プラズマ源 | 2022年 7月 1日 | |
特表 2022-530804 | 半導体デバイス製造における金属の電着中のシード層の保護 | 2022年 7月 1日 | |
特開 2022-95877 | 基板処理システムにおける再循環を低減するためのカラー、円錐形シャワーヘッド、および/または、トッププレート | 2022年 6月28日 |
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2022-533699 2022-533126 2022-106941 2022-532943 2022-532794 2022-532159 2022-105059 2022-101465 2022-531127 2022-531286 2022-531447 2022-530906 2022-530803 2022-530804 2022-95877
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11月22日(金) -
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
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11月27日(水) -
11月27日(水) -
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11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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