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ラム リサーチ コーポレーション

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  2022年 出願公開件数ランキング    第198位 187件 上昇2021年:第341位 108件)

  2022年 特許取得件数ランキング    第512位 53件 下降2021年:第407位 63件)

(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2022-533699 SiCxOyのための核形成層としてのSixNy 2022年 7月25日
特表 2022-533126 二次電子発生のために様々な平均自由行程を有する介在層または多層積層を用いる極端紫外線(EUV)リソグラフィ 2022年 7月21日
特開 2022-106941 メインRF発生器およびエッジRF発生器を同期させることによってプラズマチャンバ内のエッジ領域に関連する予め定められた要素を達成するためのシステムおよび方法 2022年 7月20日
特表 2022-532943 光学プローブを含む電気化学的堆積システム 2022年 7月20日
特表 2022-532794 パージを伴う腐食性ガス用の蒸気アキュムレータ 2022年 7月19日
特表 2022-532159 マルチレベルRF電力パルシングのために高周波(RF)信号発生器の自動周波数調整を行う方法およびシステム 2022年 7月13日
特開 2022-105059 静電チャック接合のための永久二次浸食封じ込め 2022年 7月12日
特開 2022-101465 フォトレジスト接着および線量低減のための下層 2022年 7月 6日
特表 2022-531127 RFプラズマ・ツールにおける複数レベルのパルス化のためのシステム及び方法 2022年 7月 6日
特表 2022-531286 閉ループ多出力無線周波数(RF)整合 2022年 7月 6日
特表 2022-531447 基板処理システム用フィルタボックス 2022年 7月 6日
特表 2022-530906 静電チャックシステム 2022年 7月 4日
特表 2022-530803 二重周波数、直接駆動誘導結合プラズマ源 2022年 7月 1日
特表 2022-530804 半導体デバイス製造における金属の電着中のシード層の保護 2022年 7月 1日
特開 2022-95877 基板処理システムにおける再循環を低減するためのカラー、円錐形シャワーヘッド、および/または、トッププレート 2022年 6月28日

188 件中 91-105 件を表示

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2022-533699 2022-533126 2022-106941 2022-532943 2022-532794 2022-532159 2022-105059 2022-101465 2022-531127 2022-531286 2022-531447 2022-530906 2022-530803 2022-530804 2022-95877

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