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ラム　リサーチ　コーポレーション

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公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7171573	半導体処理のための円錐形ウエハセンタリングおよび保持装置	2022年11月15日
特許 7170386	堆積期間にわたる基板温度を変化させることによる界面反応の抑制	2022年11月14日
特許 7168642	背面ガス供給管を備えた基板ペデスタルモジュールおよびその製造方法	2022年11月 9日
特許 7166746	結合リング内に電極を使用することによってエッジ領域におけるイオンの方向性を制御するためのシステム	2022年11月 8日
特許 7165506	パターニング用途のための原子層エッチング、反応性前駆体、及びエネルギ源	2022年11月 4日
特許 7163289	ラジカルおよび前駆体ガスを下流チャンバに供給して遠隔プラズマ膜蒸着を可能にするための温度制御を備えた統合シャワーヘッド	2022年10月31日
特許 7159180	原子層エッチングにおける方向性の制御	2022年10月24日
特許 7145893	ウエハ保持装置上におけるめっきの遠隔検知	2022年10月 3日
特許 7122422	プラズマ処理システム	2022年 8月19日
特許 7117419	ウエハ裏面における堆積の低減のための可変温度ハードウェアおよび方法	2022年 8月12日
特許 7113010	アクティブシャワーヘッド	2022年 8月 4日
特許 7111449	ウエハエッジにおける方位角方向の厚さの均一性を向上させるためのポケット内ウエハのセンタリング	2022年 8月 2日
特許 7111460	メサ間の領域の深さが異なる基板支持体および対応する温度依存の加工方法	2022年 8月 2日
特許 7101778	プラズマチャンバ内で使用するためのリング構造およびシステム	2022年 7月15日
特許 7097983	単一プラズマチャンバにおける、限界寸法制御のための原子層堆積及びエッチング	2022年 7月 8日

53 件中 16-30 件を表示

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7171573 7170386 7168642 7166746 7165506 7163289 7159180 7145893 7122422 7117419 7113010 7111449 7111460 7101778 7097983

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