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ラム　リサーチ　コーポレーション

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公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7096537	半導体デバイス製造における酸化スズ被膜スペーサ	2022年 7月 6日
特許 7096538	開放空間均圧化通路および側方閉じ込めを備えた平坦な基板縁部接触部	2022年 7月 6日
特許 7096540	追加の回転軸を有する回転インデクサ	2022年 7月 6日
特許 7096271	調整可能／交換可能なエッジ結合リングのための検出システム	2022年 7月 5日
特許 7092456	連続ＣＶＤプロセスによる低フッ素タングステンの堆積	2022年 6月28日
特許 7079560	電気メッキ中の電解液の監視	2022年 6月 2日
特許 7072354	メインＲＦ発生器およびエッジＲＦ発生器を同期させることによってプラズマチャンバ内のエッジ領域に関連する予め定められた要素を達成するためのシステムおよび方法	2022年 5月20日
特許 7068784	プラズマ処理システムを監視するための方法およびシステム、ならびに高度なプロセスおよびツール制御	2022年 5月17日
特許 7067853	断続的な再修復プラズマを用い、ＡＬＤによる酸化ケイ素表面コーティングを使用したラジカル再結合の最少化	2022年 5月16日
特許 7066920	プラズマチャンバの電極への電力送出を最適化するシステムおよび方法	2022年 5月13日
特許 7063545	静電チャック接合のための永久二次浸食封じ込め	2022年 5月 9日
特許 7062383	アーク放電および点火を防ぎプロセスの均一性を向上させるための特徴を有する静電チャック	2022年 5月 6日
特許 7060344	移動可能エッジリングおよびガス注入調節によるウエハ上ＣＤ均一性の制御	2022年 4月26日
特許 7058953	基板処理システムにおける再循環を低減するためのカラー、円錐形シャワーヘッド、および／または、トッププレート	2022年 4月25日
特許 7058080	ＡＬＥおよび選択的蒸着を用いた基板のエッチング	2022年 4月21日

53 件中 31-45 件を表示

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7096537 7096538 7096540 7096271 7092456 7079560 7072354 7068784 7067853 7066920 7063545 7062383 7060344 7058953 7058080

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