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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第178位 197件 (2023年:第146位 259件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第216位 154件 (2023年:第292位 112件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7454509 | 基板処理システムのモデルベースの制御 | 2024年 3月22日 | |
特許 7454600 | 移動可能エッジリングおよびガス注入調節によるウエハ上CD均一性の制御 | 2024年 3月22日 | |
特許 7453958 | チャンバからSnO2膜を洗浄するための方法 | 2024年 3月21日 | |
特許 7453149 | セラミックベースプレートを備えるマルチプレート静電チャック | 2024年 3月19日 | |
特許 7450609 | フィデューシャルフィルタリング自動ウエハセンタリングプロセスおよび関連するシステム | 2024年 3月15日 | |
特許 7447087 | エッジリング部品番号をスロット番号にマッピングするための識別子の使用 | 2024年 3月11日 | |
特許 7447093 | 準安定活性ラジカル種を使用する原子層処置プロセス | 2024年 3月11日 | |
特許 7444787 | 構成可能な分散インターロック-システム | 2024年 3月 6日 | |
特許 7442499 | 改善されたチャンバ整合のためのハイブリッド流量計測 | 2024年 3月 4日 | |
特許 7442582 | プラズマチャンバ内で使用するためのリング構造およびシステム | 2024年 3月 4日 | |
特許 7441819 | 制御されたエッチングのための単一エネルギイオン生成 | 2024年 3月 1日 | |
特許 7441221 | エッジリングリフトを用いた動的シース制御 | 2024年 2月29日 | |
特許 7440488 | 半導体基板処理におけるペデスタルへの蒸着の防止 | 2024年 2月28日 | |
特許 7440592 | 最適化された低エネルギ/高生産性の蒸着システム | 2024年 2月28日 | |
特許 7439229 | シャワーヘッドチルト機構 | 2024年 2月27日 |
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7454509 7454600 7453958 7453149 7450609 7447087 7447093 7444787 7442499 7442582 7441819 7441221 7440488 7440592 7439229
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