特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ラム　リサーチ　コーポレーション

※ ログインすれば出願人(ラム　リサーチ　コーポレーション)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第178位　197件（2023年：第146位　259件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第216位　154件（2023年：第292位　112件）

（ランキング更新日：2025年10月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2025年

ラム　リサーチ　コーポレーションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7454509	基板処理システムのモデルベースの制御	2024年 3月22日
特許 7454600	移動可能エッジリングおよびガス注入調節によるウエハ上ＣＤ均一性の制御	2024年 3月22日
特許 7453958	チャンバからＳｎＯ２膜を洗浄するための方法	2024年 3月21日
特許 7453149	セラミックベースプレートを備えるマルチプレート静電チャック	2024年 3月19日
特許 7450609	フィデューシャルフィルタリング自動ウエハセンタリングプロセスおよび関連するシステム	2024年 3月15日
特許 7447087	エッジリング部品番号をスロット番号にマッピングするための識別子の使用	2024年 3月11日
特許 7447093	準安定活性ラジカル種を使用する原子層処置プロセス	2024年 3月11日
特許 7444787	構成可能な分散インターロック－システム	2024年 3月 6日
特許 7442499	改善されたチャンバ整合のためのハイブリッド流量計測	2024年 3月 4日
特許 7442582	プラズマチャンバ内で使用するためのリング構造およびシステム	2024年 3月 4日
特許 7441819	制御されたエッチングのための単一エネルギイオン生成	2024年 3月 1日
特許 7441221	エッジリングリフトを用いた動的シース制御	2024年 2月29日
特許 7440488	半導体基板処理におけるペデスタルへの蒸着の防止	2024年 2月28日
特許 7440592	最適化された低エネルギ／高生産性の蒸着システム	2024年 2月28日
特許 7439229	シャワーヘッドチルト機構	2024年 2月27日

154 件中 121-135 件を表示

... 9

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

7454509 7454600 7453958 7453149 7450609 7447087 7447093 7444787 7442499 7442582 7441819 7441221 7440488 7440592 7439229

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ラム　リサーチ　コーポレーションの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数