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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第608位 43件
(
2024年:第435位 71件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第355位 75件
(
2024年:第402位 73件)
(ランキング更新日:2026年1月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7790297 | 接合シリコンウェーハ及びその製造方法 | 2025年12月23日 | |
| 特許 7790626 | エピタキシャルシリコンウェーハ及びその製造方法、並びに半導体デバイスの製造方法 | 2025年12月23日 | |
| 特許 7786165 | 単結晶の製造装置用磁石、単結晶の製造装置および単結晶の製造方法 | 2025年12月16日 | |
| 特許 7786289 | シリコン単結晶の製造方法及び装置並びにシリコンウェーハの製造方法 | 2025年12月16日 | |
| 特許 7786320 | ワークの厚さの測定装置、ワークの厚さの測定方法、ワークの研磨システム | 2025年12月16日 | |
| 特許 7775800 | シリコンウェーハおよびエピタキシャルシリコンウェーハ | 2025年11月26日 | |
| 特許 7775972 | 単結晶引上装置 | 2025年11月26日 | |
| 特許 7771899 | 半導体ウェーハの評価方法、半導体ウェーハの製造方法及び半導体ウェーハ | 2025年11月18日 | |
| 特許 7771932 | レーザーマーク付きシリコンウェーハ及びその製造方法 | 2025年11月18日 | |
| 特許 7772142 | ワークの洗浄装置およびワークの洗浄方法 | 2025年11月18日 | |
| 特許 7768054 | シリコンウェーハ及びシリコン単結晶のインゴットの育成方法 | 2025年11月12日 | |
| 特許 7768072 | シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボ及びこれを用いたシリコン単結晶の製造方法 | 2025年11月12日 | |
| 特許 7768119 | クラスターイオンビームの生成方法及びクラスターイオンの注入方法 | 2025年11月12日 | |
| 特許 7768120 | クラスターイオンビームの生成方法及びクラスターイオンの注入方法 | 2025年11月12日 | |
| 特許 7757902 | ウェーハの片面研磨方法、ウェーハの製造方法、およびウェーハの片面研磨装置 | 2025年10月22日 |
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7790297 7790626 7786165 7786289 7786320 7775800 7775972 7771899 7771932 7772142 7768054 7768072 7768119 7768120 7757902
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