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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2024-170437	イオン注入システム及び新規な加速器段構成を有する線形加速器	2024年12月10日
特表 2024-545641	改良型ピラニ真空計アーキテクチャを使用してラジカルイオンフラックスを測定するための方法	2024年12月10日
特表 2024-545643	環状運動が強化されたイオン源	2024年12月10日
特表 2024-544815	製造システムにおけるマルチレベルＲＦパルス監視およびＲＦパルス化パラメータ最適化	2024年12月 5日
特表 2024-544816	半導体製造のための環境効率監視・探査プラットフォーム	2024年12月 5日
特表 2024-545071	プラズマ処理中に複数の波形信号を供給するための装置及び方法	2024年12月 5日
特表 2024-545077	イオン注入用の静電クランププラテンを有する回転ディスク	2024年12月 5日
特表 2024-545160	テクスチャのある誘電体を使用したウエハからベースプレートへのアーク放電の防止	2024年12月 5日
特開 2024-167175	エネルギー拡散イオンビームのための装置、システム、及び方法	2024年12月 3日
特開 2024-167188	半導体処理システム用の分配構成要素	2024年12月 3日
特表 2024-544467	エピタキシャル堆積リアクタのための動的で局部化された温度制御	2024年12月 3日
特表 2024-544596	ベーキング後に基板を冷却するチャンバおよび方法	2024年12月 3日
特表 2024-544219	モデルトレーニングに使用可能な走査ラジカルセンサ	2024年11月28日
特開 2024-163993	プラズマ処理用途のためのパルス電圧源	2024年11月26日
特開 2024-164008	製造プロセス性能を向上させるための統合された基板測定システム	2024年11月26日

606 件中 16-30 件を表示

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2024-170437 2024-545641 2024-545643 2024-544815 2024-544816 2024-545071 2024-545077 2024-545160 2024-167175 2024-167188 2024-544467 2024-544596 2024-544219 2024-163993 2024-164008

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