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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2024-156735	誘電体スパッタリング中の加工物の欠陥を低減するためのプラズマチャンバターゲット	2024年11月 6日
特表 2024-540876	研磨スラリ吐出ノズル	2024年11月 6日
特表 2024-540933	高温において半導体ワークピースを処理するためのチャック	2024年11月 6日
特表 2024-540934	抽出イオンビームの角度制御のためのミスマッチ光学系	2024年11月 6日
特表 2024-540981	イオン源ガス注入によるビーム整形	2024年11月 6日
特表 2024-541011	ビーム均一性制御のための可変電極厚さを有するイオン抽出アセンブリ	2024年11月 6日
特表 2024-541075	電荷トラップ層を備えた支持基板を準備するためのプロセス	2024年11月 6日
特表 2024-539809	洗浄プロセスシーケンス管理のための方法およびシステム	2024年10月31日
特表 2024-539912	二官能性自己組織化単分子膜を用いた金属表面の選択的ブロッキング	2024年10月31日
特表 2024-539913	二官能性自己組織化単分子膜を用いた金属表面の選択的ブロッキング	2024年10月31日
特表 2024-539914	複数の半導体プロセスモジュール又はチャンバをサポートするモジュール式メインフレームレイアウト	2024年10月31日
特表 2024-540533	ムラ低減方法	2024年10月31日
特開 2024-153651	プラズマチャンバ状態モニタリングのための容量性感知データ統合	2024年10月29日
特開 2024-153669	温度制御のための化学機械研磨温度スキャン装置	2024年10月29日
特開 2024-153821	自律型基板処理システム	2024年10月29日

606 件中 61-75 件を表示

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2024-156735 2024-540876 2024-540933 2024-540934 2024-540981 2024-541011 2024-541075 2024-539809 2024-539912 2024-539913 2024-539914 2024-540533 2024-153651 2024-153669 2024-153821

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