特許ランキング - 出願人詳細情報 -

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第41位　605件（2023年：第32位　708件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第47位　555件（2023年：第80位　398件）

（ランキング更新日：2025年1月7日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2025年

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-539605	選択的シリコン堆積	2024年10月29日
特表 2024-539649	共振器、線形加速器構成、及び回転励磁器を有するイオン注入システム	2024年10月29日
特表 2024-538975	導波路ディスプレイのための多層伝送構造	2024年10月28日
特表 2024-538976	金属化された高指数ブレーズ回折格子インカプラー	2024年10月28日
特表 2024-538977	高性能導波路インカプラとして部分的にメタライズされた格子	2024年10月28日
特表 2024-538981	下流残留物の管理ハードウェア	2024年10月28日
特表 2024-539017	回転ペデスタルに対して傾斜したＰＶＤ源	2024年10月28日
特表 2024-539022	均等分割及び共通迂回アーキテクチャのためのマニホールド	2024年10月28日
特表 2024-539067	炭素による間隙充填プロセス	2024年10月28日
特表 2024-539415	三次元メモリ用のＬ型ワード線の接続構造	2024年10月28日
特開 2024-150436	磁気トンネル接合構造及びその製造方法	2024年10月23日
特開 2024-150480	酸化物又は酸窒化物シード層を有する高臨界温度金属窒化物層	2024年10月23日
特開 2024-150481	薄膜電気光学導波管変調器装置	2024年10月23日
特開 2024-150507	選択的堆積によるケイ素化合物膜	2024年10月23日
特開 2024-150515	両面処理のためのパターニングされたチャック	2024年10月23日

606 件中 76-90 件を表示

... 6

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2024-539605 2024-539649 2024-538975 2024-538976 2024-538977 2024-538981 2024-539017 2024-539022 2024-539067 2024-539415 2024-150436 2024-150480 2024-150481 2024-150507 2024-150515

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数