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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2024-160272	プラズマ化学気相成長法のための膜応力制御	2024年11月13日
特表 2024-541792	中央にＵＶブロッカを備えたガス分配プレート	2024年11月13日
特表 2024-541877	ウエハの平面不均一性を低減するための底部カバープレート	2024年11月13日
特表 2024-542219	半導体プロセスチャンバへの初期ウエハ効果をなくす方法	2024年11月13日
特表 2024-541181	方向付けられた高圧化学薬品による表面洗浄	2024年11月 8日
特表 2024-541232	モジュール式多方向ガス混合ブロック	2024年11月 8日
特表 2024-541316	コード化基板材料識別子通信ツール	2024年11月 8日
特表 2024-541352	ＰＶＤチャンバ用高温着脱式超高周波（ＶＨＦ）静電チャック（ＥＳＣ）	2024年11月 8日
特表 2024-541406	機械学習ベースのアルゴリズムを使用した予防保守の回復とレシピの最適化の促進	2024年11月 8日
特表 2024-541413	電荷トラップカットを有するＮＡＮＤセル構造	2024年11月 8日
特表 2024-541664	高度なパターニングのための準グローバルカソードコンタクト方法	2024年11月 8日
特開 2024-156650	基板処理システムの複数の質量流量コントローラ（ＭＦＣ）の較正動作を実行するための方法、システム、及び装置	2024年11月 6日
特開 2024-156681	薄膜、透明な結晶を通したインシトゥ測定、および処理チャンバ壁内の透明な基材	2024年11月 6日
特開 2024-156693	設計ファイル内の階層構造情報の保存	2024年11月 6日
特開 2024-156730	フルウエハレーザ加熱式ＥＰＩチャンバ	2024年11月 6日

606 件中 46-60 件を表示

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2024-160272 2024-541792 2024-541877 2024-542219 2024-541181 2024-541232 2024-541316 2024-541352 2024-541406 2024-541413 2024-541664 2024-156650 2024-156681 2024-156693 2024-156730

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