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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件
（
2023年：第32位 708件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件
（
2023年：第80位 398件）
（ランキング更新日：2025年1月7日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2024-164262 | 基板支持台座 | 2024年11月26日 | |
| 特表 2024-543400 | 半導体デバイスパッケージ | 2024年11月21日 | |
| 特表 2024-543593 | 回転ディスク上の複数のプラテンの静電クランプを制御するためのシステム及び方法 | 2024年11月21日 | |
| 特表 2024-543624 | パッケージ基板の電気的、機械的、熱的特性の適合 | 2024年11月21日 | |
| 特表 2024-542937 | 製造機器の保守の質を向上させるための検証 | 2024年11月19日 | |
| 特表 2024-542955 | 調整可能な窒化によるプラズマ処理 | 2024年11月19日 | |
| 特表 2024-543105 | 取り外し可能なシャフトを備えた静電チャック | 2024年11月19日 | |
| 特表 2024-543128 | 静電チャックのガス供給用多孔質プラグ | 2024年11月19日 | |
| 特表 2024-543156 | 金属窒化ケイ素膜を形成するためのＮＨラジカル熱窒化 | 2024年11月19日 | |
| 特表 2024-543225 | ダイヤモンド膜堆積のための気相前駆体シーディング | 2024年11月19日 | |
| 特表 2024-542372 | 薄膜基板を搬送するための真空処理システム、装置および方法 | 2024年11月15日 | |
| 特表 2024-542432 | 基板処理システムの基板支持体における基板位置校正 | 2024年11月15日 | |
| 特表 2024-542484 | 多相回転ガスクロスフロー及び周辺コンダクタンス制御リングを備えたプラズマチャンバ | 2024年11月15日 | |
| 特表 2024-542530 | 充填誘電材料を有するゲートオールラウンドトランジスタアーキテクチャ | 2024年11月15日 | |
| 特表 2024-542561 | ゲートオールアラウンドトランジスタ及び形成方法 | 2024年11月15日 |
606 件中 31-45 件を表示
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2024-164262 2024-543400 2024-543593 2024-543624 2024-542937 2024-542955 2024-543105 2024-543128 2024-543156 2024-543225 2024-542372 2024-542432 2024-542484 2024-542530 2024-542561
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