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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件 (2023年:第32位 708件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件 (2023年:第80位 398件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7478842 | 極端紫外線マスク吸収体材料 | 2024年 5月 7日 | |
特許 7477515 | 基板処理チャンバ用のポンピング装置及び方法 | 2024年 5月 1日 | |
特許 7477593 | エッチングチャンバのための低接触面積基板支持体 | 2024年 5月 1日 | |
特許 7477637 | 電子機器製造システムのためのチャンバの遠隔プラズマ洗浄 | 2024年 5月 1日 | |
特許 7476117 | 基板用キャリア及び基板を搬送するための方法 | 2024年 4月30日 | |
特許 7476319 | ドープされたALD窒化タンタルにおける不純物の除去 | 2024年 4月30日 | |
特許 7475337 | 動的水平化を備えた同軸リフト装置 | 2024年 4月26日 | |
特許 7475462 | 隣接する導電層のスタックの研磨中のプロファイル制御 | 2024年 4月26日 | |
特許 7475463 | 基板ハンドリングシステム | 2024年 4月26日 | |
特許 7474700 | デバイス製造における金属ハードマスクの形成のシステムおよび方法 | 2024年 4月25日 | |
特許 7474805 | 遠隔プラズマによる酸化へのアルゴン添加 | 2024年 4月25日 | |
特許 7474818 | ビードブラストを用いない表面のテクスチャリング | 2024年 4月25日 | |
特許 7474266 | 大面積シームレスマスター及びインプリントスタンプの製造方法 | 2024年 4月24日 | |
特許 7473614 | 自己組織化単分子層処理のための化学物質供給チャンバ | 2024年 4月23日 | |
特許 7473635 | デッドボリュームの低減のための清浄なアイソレーションバルブ | 2024年 4月23日 |
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7478842 7477515 7477593 7477637 7476117 7476319 7475337 7475462 7475463 7474700 7474805 7474818 7474266 7473614 7473635
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1月10日(金) -
1月11日(土) -
1月11日(土) -
1月10日(金) -
1月14日(火) - 東京 港区
1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月18日(土) -
1月14日(火) - 東京 港区
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