信越半導体株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第396位 96件
（
2018年：第424位 80件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第322位 84件
（
2018年：第275位 105件）
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信越半導体株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2019-16713 | ウェーハ評価方法及びエピタキシャルウェーハの製造方法 | 2019年 1月31日 | |
| 特開 2019-9212 | 半導体基板の評価方法 | 2019年 1月17日 | |
| 特開 2019-9257 | ＳＯＩウェーハの製造方法 | 2019年 1月17日 | |
| 特開 2019-917 | 研磨方法及び研磨装置 | 2019年 1月10日 | |
| 特開 2019-4050 | エピタキシャルウェーハの製造方法 | 2019年 1月10日 | |
| 特開 2019-4098 | エピタキシャルウェーハ及びその製造方法 | 2019年 1月10日 |
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2019-16713 2019-9212 2019-9257 2019-917 2019-4050 2019-4098
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